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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106662810B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201580047940.9
申请日：2015-07-24
Applicant: 国际商业机器公司 , 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供包含游离的光致产酸剂和与光致产酸部分共价结合的多官能聚合物的负性抗蚀剂组合物，其中所述组合物基本不含交联剂。还提供可与抗蚀剂组合物联合使用的多官能聚合物，以及使用本发明组合物和聚合物在基底上产生抗蚀剂图像的方法。
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公开(公告)号：CN106662810A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580047940.9
申请日：2015-07-24
Applicant: 国际商业机器公司 , 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供包含游离的光致产酸剂和与光致产酸部分共价结合的多官能聚合物的负性抗蚀剂组合物，其中所述组合物基本不含交联剂。还提供可与抗蚀剂组合物联合使用的多官能聚合物，以及使用本发明组合物和聚合物在基底上产生抗蚀剂图像的方法。
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公开(公告)号：CN102428022B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201080021334.7
申请日：2010-04-23
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C1/00404 , B81C2201/0149 , H01L21/0337 , H01L21/31144
Abstract: 使用例如光刻法在基底上形成开口，该开口具有侧壁，其横截面由曲线轮廓的及凸面的区段构成。例如，该开口的横截面可由交迭的圆形区域构成。该侧壁在多个点邻接，在该邻接处限定突出部。包括嵌段共聚物的聚合物的层施加于该开口及该基底上，并让其自组装。在开口中形成分离、隔开的畴，将所述畴除去以形成孔，该孔可被转印至下方基底。这些畴及与它们所对应的孔的位置由侧壁及它们的相关突出部处定向于预定的位置。这些孔分开的距离可大于或小于该嵌段共聚物(及任何添加剂)在无任何侧壁下自组装时的这些孔分开的距离。
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公开(公告)号：CN111788236A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015573.2
申请日：2019-02-14
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 描述了光活性聚合物刷材料和使用该光活性聚合物刷材料的EUV光致抗蚀剂图案化方法。所述光活性聚合物刷材料包括可在衬底表面固定的接枝部分、干法可显影或可灰化部分、和光酸产生部分，它们结合到聚合物主链。在曝光于EUV辐射时，所述光酸产生部分在界面处产生酸，这克服了酸损耗问题从而减少光致抗蚀剂浮渣。所述光酸产生部分还可便于经由所述接枝部分的任选的酸可切断的接枝官能团将所述光活性聚合物刷材料从所述衬底切断。所述干法可显影或可灰化部分便于在化学增强EUV光致抗蚀剂的显影之后存在残余物的情况下将所述光活性聚合物刷材料从所述衬底完全去除。
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公开(公告)号：CN102428022A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201080021334.7
申请日：2010-04-23
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C1/00404 , B81C2201/0149 , H01L21/0337 , H01L21/31144
Abstract: 使用例如光刻法在基底上形成开口，该开口具有侧壁，其横截面由曲线轮廓的及凸面的区段构成。例如，该开口的横截面可由交迭的圆形区域构成。该侧壁在多个点邻接，在该邻接处限定突出部。包括嵌段共聚物的聚合物的层施加于该开口及该基底上，并让其自组装。在开口中形成分离、隔开的畴，将所述畴除去以形成孔，该孔可被转印至下方基底。这些畴及与它们所对应的孔的位置由侧壁及它们的相关突出部处定向于预定的位置。这些孔分开的距离可大于或小于该嵌段共聚物(及任何添加剂)在无任何侧壁下自组装时的这些孔分开的距离。
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