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公开(公告)号：CN116438551A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180076027.7
申请日：2021-11-15
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G06N10/40
Abstract: 一种量子力学电路(100)，包括：第一电导体(104)和第二电导体(106)，其设置在衬底(102)上并且间隔开以在其间提供间隙(112)；以及第三电导体(108)，其电连接第一电导体和第二电导体。第三电导体具有实质上低于第一电导体和第二电导体的热导率的热导率，以提供热隔离。超导量子处理器(204)的量子位(206)被提供在衬底上并且经由第一或第二电导体中的至少一个而被电气地连接到地。
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公开(公告)号：CN100361025C
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200310118361.8
申请日：2003-11-25
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/095 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/095 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供了用于在正色调或负色调化学增强光致抗蚀剂中形成图象的方法。本发明方法依赖于底层的以图案成像方式产生的光致酸的垂直向上的扩散，所述底层沉积在基质上并用含有对酸不稳定的官能团的聚合物覆盖。根据本发明，垂直向上扩散可以是图象形成的唯一机理，或者本发明方法可以与常规成像方法结合使用。
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公开(公告)号：CN101164013B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000A/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
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公开(公告)号：CN101164013A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
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公开(公告)号：CN1512270A
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：CN200310118361.8
申请日：2003-11-25
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/095 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/095 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供了用于在正色调或负色调化学增强光致抗蚀剂中形成图象的方法。本发明方法依赖于底层的以图案成像方式产生的光致酸的垂直向上的扩散，所述底层沉积在基质上并用含有对酸不稳定的官能团的聚合物覆盖。根据本发明，垂直向上扩散可以是图象形成的唯一机理，或者本发明方法可以与常规成像方法结合使用。
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