层叠体、成膜方法及成膜装置

    公开(公告)号:CN113243043B

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN201980082989.6

    申请日:2019-11-18

    Abstract: 本发明为一种层叠体,其包含晶体基板与半导体膜,所述半导体膜设置在该晶体基板的主表面上,且含有掺杂剂并包含具有刚玉结构的氧化物半导体作为主要成分,所述氧化物半导体中所包含的Si浓度为5.0×1020cm‑3以下,所述半导体膜的电阻率为150mΩ·cm以下。由此,可提供一种层叠体,该层叠体包含适于半导体器件用途的低电阻的具有刚玉结构的半导体。

    成膜方法及原料溶液
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116157360A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202180055292.7

    申请日:2021-08-03

    Abstract: 本发明涉及一种成膜方法,其为对经雾化的原料溶液进行热处理而进行成膜的成膜方法,其特征在于,将金属镓溶解于含有氢溴酸及氢碘酸中的至少一种的酸性溶液中,制备金属杂质的浓度小于2%的所述原料溶液,将该原料溶液雾化并进行成膜。由此,能够提供一种成膜方法,该方法能够以高成膜速度成膜为结晶性良好的膜。

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