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公开(公告)号:CN111542651B
公开(公告)日:2021-12-24
申请号:CN201880083603.9
申请日:2018-11-14
Applicant: 信越半导体株式会社
Abstract: 本发明提供一种碳化硅单晶的制造方法,其为利用上部设有温度测定用的孔的隔热材料包围生长容器,于该生长容器内的上部的中心配置晶种基板,于生长容器下部配置碳化硅原材料并使其升华而使SiC单晶在晶种基板上生长的方法,所述制造方法中,以使孔的中心位置与晶种基板的中心位置错开的方式,将孔相对于晶种基板的中心向外周侧的位置错开而设置,作为晶种基板,使用具有自作为基底面的{0001}面仅倾斜了偏移角的主面的SiC单晶基板,在包含晶种基板的中心及孔的中心的剖视中,以使晶种基板的基底面的法线矢量的与主面平行的分量的方向与孔的偏心方向为反方向的方式,配置晶种基板而使SiC单晶生长。由此,提供一种减少了贯穿缺陷的碳化硅单晶的制造方法。
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公开(公告)号:CN112313369A
公开(公告)日:2021-02-02
申请号:CN201980040591.6
申请日:2019-05-29
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: C30B29/36
Abstract: 本发明的碳化硅单晶生长装置具备:生长容器,其由粘接有晶种基板的生长容器盖体和收纳晶种基板及碳化硅原料的生长容器主体构成;隔热容器,其包围生长容器;温度测量器,其通过设置于隔热容器的温度测量用孔,以测量生长容器内的温度;以及加热器,其加热碳化硅原料,通过升华法使碳化硅原料加热而升华,使碳化硅单晶在晶种基板上生长,其特征在于,生长容器盖体仅在生长容器盖体的晶种基板的粘接区域内形成有贯穿生长容器盖体的图案。由此,提供能够抑制贯穿螺型位错、基面位错及贯穿刃型位错的产生的碳化硅单晶生长装置及制造方法。
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公开(公告)号:CN1407636A
公开(公告)日:2003-04-02
申请号:CN02131970.7
申请日:2002-08-30
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: H01L33/00
CPC classification number: H01L33/30 , H01L24/32 , H01L33/22 , H01L2224/32245 , H01L2224/32257 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/73265 , H01L2224/92247 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 在GaP系半导体基体70中,以p型层侧的主面作为第一主面10,以其相反侧的主面作为第二主面12。在第二主面,藉由研磨后用王水蚀刻,以形成可提高光全反射之向半导体基体70内侧凸之镜面状凹曲面51的集合;另一方面,在半导体基体70之第一接触层62形成区域及第二主面11以外,藉由实施异向性蚀刻,以形成为降低光全反射之向外侧凸之凸曲面53的集合。又,将形成于第二主面11上之第二接触层64(第二电极63),用Au、Si及Ni所组成的合金所形成,将形成于第一主面10上之第一接触层62,用Au和Be或Zn之合金所形成。藉此,可提供出就算在间接跃迁型的发光形态也能充分的提高亮度之GaP系半导体发光组件。
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公开(公告)号:CN111868311A
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN201980019480.7
申请日:2019-02-18
Applicant: 信越半导体株式会社
Abstract: 本发明提供一种碳化硅单晶的制造方法,其中,使碳化硅原材料于生长容器内升华,从而使碳化硅单晶在晶种基板上生长,所述制造方法的特征在于,作为所述晶种基板,使用设置于所述生长容器的面为偏移角1°以下的{0001}面、且晶体生长面为凸形状的生长晶锭端面的基板,并将所述晶种基板的直径设为所述生长容器的内径的80%以上。由此,提供一种碳化硅单晶的制造方法,该制造方法能够制造即使进行没有偏移角的生长、即在自C轴<0001>没有倾斜的基面上的生长方向上,也不易产生不同的多型,且直体率高的碳化硅单晶。
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公开(公告)号:CN111868310A
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN201980018916.0
申请日:2019-02-15
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: C30B29/36
Abstract: 本发明提供一种SiC单晶的制造方法,其为利用上部设有温度测量用的孔的隔热材料包围生长容器,于该生长容器的上部的中心配置晶种基板,于生长容器的下部配置碳化硅原材料并使其升华而使SiC单晶在晶种基板上生长的方法,所述制造方法中,以使孔的中心位置与晶种基板的中心位置错开的方式,将孔相对于晶种基板的中心向外周侧的位置错开而设置,作为晶种基板,使用具有自作为基面的{0001}面仅倾斜了偏移角的主面的SiC单晶基板,在包含晶种基板的中心与孔的中心的剖视中,以使晶种基板的基面的法线矢量的与主面平行的分量的方向同孔的偏心方向为同一方向的方式,配置晶种基板而使SiC单晶生长。由此,提供一种减少了晶圆中央部的结晶性的劣化的碳化硅单晶的制造方法。
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公开(公告)号:CN1947270A
公开(公告)日:2007-04-11
申请号:CN200580013481.9
申请日:2005-04-13
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: H01L33/00 , H01L21/308
CPC classification number: H01L33/30 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L33/22 , H01L2224/48091 , Y10S438/964 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明的发光元件的制造方法,是将具有发光层部24(具有由AlGaInP所组成的双异质结构)、以及GaP光取出层20(以本身的第一主表面成为晶圆的第一主表面的形式设置于发光层部上)的发光元件晶圆,以GaP光取出层的第一主表面成为(100)面的方式来制造。其是通过面粗糙用蚀刻液,将由该(100)面所形成的GaP光取出层20的第一主表面进行蚀刻,而形成面粗糙突起部40f;该蚀刻液,是含有醋酸、氢氟酸、硝酸、碘与水合计量在90%以上,且醋酸、氢氟酸、硝酸与碘的总质量含有率较水的质量含有率为高。由此,本发明可提供一种发光元件的制造方法,其具有以(100)作为主表面的GaP光取出层,且可轻易地在该(100)主表面进行面粗糙处理。
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公开(公告)号:CN112313369B
公开(公告)日:2022-12-09
申请号:CN201980040591.6
申请日:2019-05-29
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: C30B29/36
Abstract: 本发明的碳化硅单晶生长装置具备:生长容器,其由粘接有晶种基板的生长容器盖体和收纳晶种基板及碳化硅原料的生长容器主体构成;隔热容器,其包围生长容器;温度测量器,其通过设置于隔热容器的温度测量用孔,以测量生长容器内的温度;以及加热器,其加热碳化硅原料,通过升华法使碳化硅原料加热而升华,使碳化硅单晶在晶种基板上生长,其特征在于,生长容器盖体仅在生长容器盖体的晶种基板的粘接区域内形成有贯穿生长容器盖体的图案。由此,提供能够抑制贯穿螺型位错、基面位错及贯穿刃型位错的产生的碳化硅单晶生长装置及制造方法。
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公开(公告)号:CN111868310B
公开(公告)日:2021-12-24
申请号:CN201980018916.0
申请日:2019-02-15
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: C30B29/36
Abstract: 本发明提供一种SiC单晶的制造方法,其为利用上部设有温度测量用的孔的隔热材料包围生长容器,于该生长容器的上部的中心配置晶种基板,于生长容器的下部配置碳化硅原材料并使其升华而使SiC单晶在晶种基板上生长的方法,所述制造方法中,以使孔的中心位置与晶种基板的中心位置错开的方式,将孔相对于晶种基板的中心向外周侧的位置错开而设置,作为晶种基板,使用具有自作为基面的{0001}面仅倾斜了偏移角的主面的SiC单晶基板,在包含晶种基板的中心与孔的中心的剖视中,以使晶种基板的基面的法线矢量的与主面平行的分量的方向同孔的偏心方向为同一方向的方式,配置晶种基板而使SiC单晶生长。由此,提供一种减少了晶圆中央部的结晶性的劣化的碳化硅单晶的制造方法。
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公开(公告)号:CN100481541C
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200580013382.0
申请日:2005-04-13
Applicant: 信越半导体株式会社
IPC: H01L33/00 , H01L21/308
CPC classification number: H01L33/22 , H01L33/0079 , H01L33/0095 , H01L33/30
Abstract: 本发明是对具有发光层部24、以及以结晶方位与该发光层部24一致的方式做积层的GaP透明半导体层20,90而成的发光元件晶圆,以GaP透明半导体层的侧面成为{100}面的方式进行切割来得到发光元件芯片;该发光层部,在以组成式(AlxGa1-x)yIn1-yP(其中,0≤x≤1,0≤y≤1)表示的化合物中,以与GaAs晶格匹配的组成的化合物分别构成第一导电型包覆层6、活性层5以及第二导电型包覆层4,并依此顺序积层而形成双异质结构,且主表面为(100)面。藉此提供一种在具有AlGaInP发光层部与GaP透明半导体层的发光元件中,进行切割时不易产生边缘裂片等不良的制造方法。
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