公开(公告)号：CN1577506A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410063203.1

申请日：2004-06-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 石井政利 ,  津森俊宏 ,  滨口优 ,  常光幸美

IPC: G11B5/66 ,  G11B5/667

CPC classification number: G11B5/732 ,  G11B5/667 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24388 ,  Y10T428/24421 ,  Y10T428/265

Abstract: 一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底和包含记录层的磁记录介质，其中经表面处理的衬底可包含具有足够强的粘合力的厚膜，能够承受调平加工，如在硅衬底上成膜过程中的抛光。一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底，其包括Si衬底及位于Si衬底上的底镀层，其中底镀层是包含金属和Si氧化物的膜。此外，提供一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底，其包括Si衬底及位于Si衬底上的底镀层，其中底镀层的表面上每100μm2存在至少5个和至多50个高度至少为100nm的凸起。进一步，提供一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底，其包括Si衬底、位于Si衬底上的底镀层、以及位于底镀层上方的软磁性层，其中底镀层和软磁性层之间存在一个无磁性中间层。