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公开(公告)号：CN106502046A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610791121.1
申请日：2016-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84
CPC classification number: G01N21/8851 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G03F1/84
Abstract: 本发明公开了检查存在于包括光学膜和薄膜的光掩模坯的表面部的缺陷的方法。该方法包括：选择和指定对应于光掩模坯的光学膜和薄膜的模式的用于判定缺陷的凹凸形状的标准和检查处理工序；基于指定的检查处理工序，施加检查光至包括缺陷的区域，同时保持缺陷和检查用光学系统的物镜之间的距离，通过该检查用光学系统将来自被检查光照射的区域的反射光作为该区域的放大图像聚集；以及基于指定的用于判定的标准，从该放大图像的光强度分布判定缺陷的凹凸形状。
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公开(公告)号：CN1749260B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200510113285.0
申请日：2005-06-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07F5/06
CPC classification number: C07F5/062
Abstract: 本发明涉及一种含有以下杂质含量的高纯三甲基铝：有机硅组分≤0.5ppm，氯组分≤20ppm，烃类组分≤1,000ppm，Ca≤0.05ppm，Fe≤0.05ppm，Mg≤0.05ppm，Na≤0.05ppm，Si(非有机硅组分的硅组分)≤0.07ppm，Zn≤0.05ppm，和S≤0.05ppm。通过蒸馏和蒸发从粗三甲基铝中除去杂质高纯三甲基铝。
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公开(公告)号：CN100348969C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN03158593.0
申请日：2003-09-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/73 , C30B25/14 , C30B25/16 , C23C16/52 , C23C16/455
CPC classification number: C30B25/14
Abstract: 一种液体有机金属化合物的蒸发和进料系统，包括装有液体有机金属化合物MO的容器；用于蒸发MO的蒸发器；连接所述容器和蒸发器并且具有液体MO质量流量控制器的液体流道；载气源；连接所述载气源与蒸发器并且具有载气质量流量控制器的载气流道；连接所述蒸发器和ICP发射摄谱仪并且具有在线监测器的样品气流道；标定用标准气钢瓶；以及连接钢瓶和在所述在线监测器下游的样品气流道并且具有标准气质量流量控制器的标准气流道。
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公开(公告)号：CN106292180B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201610467574.9
申请日：2016-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84 , G01N21/892
Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法和制备方法；利用检查用光学系统检查在具有在基底上形成的至少一个薄膜的光掩模坯的表面部分上存在的缺陷的方法。该方法包括设定缺陷和检查用光学系统的物镜之间的距离为离焦量，通过物镜对缺陷施加检查光，通过物镜将来自用检查光照射的区域的反射光作为放大图像聚集，识别放大图像的光强度变化部分，并且基于放大图像的光强度变化部分的光强度上的变化测定缺陷的凹凸形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108362711A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201810075523.0
申请日：2018-01-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/8851 , G01N21/8422 , G01N21/956 , G01N2021/8874 , G01N2021/95676 , G03F1/84
Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。
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公开(公告)号：CN1493717A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03158593.0
申请日：2003-09-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C30B25/14 , C30B25/16 , C23C16/52 , C23C16/455 , G01N21/71
CPC classification number: C30B25/14
Abstract: 一种液体有机金属化合物的蒸发和进料系统，包括装有液体有机金属化合物MO的容器；用于蒸发MO的蒸发器；连接所述容器和蒸发器并且具有液体MO质量流量控制器的液体流道；载气源；连接所述载气源与蒸发器并且具有载气质量流量控制器的载气流道；连接所述蒸发器和ICP发射摄谱仪并且具有在线监测器的样品气流道；标定用标准气钢瓶；以及连接钢瓶和在所述在线监测器下游的样品气流道并且具有标准气质量流量控制器的标准气流道。
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公开(公告)号：CN108362711B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN201810075523.0
申请日：2018-01-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。
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公开(公告)号：CN105549322B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201510695980.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84
Abstract: 评价光掩模坯料的缺陷尺寸。用检验光照射检验‑目标光掩模坯料并且通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验‑目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像被聚集。接着，识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分。接下来，得到该强度变化的光强度的差和得到该强度变化部分的宽度作为缺陷的表观宽度。接着，基于显示光强度的差、缺陷表观宽度和缺陷的实际宽度之间的关系的预定的转换公式计算缺陷宽度，并且评价缺陷宽度。
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公开(公告)号：CN100335889C
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN03158592.2
申请日：2003-09-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/73 , C30B25/14 , C30B25/16 , C23C16/52 , C23C16/455
CPC classification number: G01N21/714
Abstract: 一种有机金属化合物的蒸发和进料系统，包括连接载气源和装有有机金属化合物MO的容器并且其上具有载气质量流量控制器的载气进料流道；连接容器和在线监测器的用于输送MO气体的MO气体流道；连接在线监测器和ICP摄谱仪样品入口的样品气流道；连接充有标定用标准气的气体钢瓶和样品气流道并且具有标准气质量流量控制器的标准气流道；以及与标准气流道相连并且其上具有稀释气质量流量控制器的稀释气流道，该流道用于输送稀释气从而调节标准气的浓度。
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