公开(公告)号：CN118244589A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202410435740.1

申请日：2024-04-11

Applicant: 之江实验室

Inventor： 罗梦迪 ,  温积森 ,  朱大钊 ,  匡翠方 ,  詹刚垚

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法，在光路传播方向上依次包括激光器、偏振相位联合调制模块和扫描直写模块，其中，所述偏振相位联合调制模块在光路传播方向上依次包括第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、涡旋波片和螺旋相位片。

公开(公告)号：CN117970752A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202410155760.3

申请日：2024-02-04

Applicant: 之江实验室

Inventor： 罗梦迪 ,  匡翠方 ,  温积森 ,  朱大钊 ,  詹刚垚

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/28

Abstract: 本申请涉及一种基于矢量光场调控的超衍射极限激光直写装置和方法，该装置包括：激光输出模块，产生飞秒激光；准直扩束模块，将激光输出模块产生的飞秒激光的光斑直径扩大至预设的直径大小；偏振纯化与能量控制模块，将准直扩束模块输出的飞秒激光进行偏振纯化，得到线偏振激光并控制线偏振激光的偏振角度；矢量偏振激光调制模块，包括沃拉斯顿棱镜和空间光调制器；沃拉斯顿棱镜，对线偏振激光进行分离；空间光调制器，对线偏振激光进行相位调控，合成目标矢量偏振激光；共焦缩束模块，缩小目标矢量偏振激光的光斑直径；扫描直写模块，将共焦缩束模块输出的目标矢量偏振激光进行预设图案的激光直写。提高了光学器件调用的灵活性和可迁移性。

公开(公告)号：CN116974155A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202310982115.4

申请日：2023-08-07

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 詹刚垚 ,  匡翠方 ,  温积森 ,  罗梦迪 ,  朱大钊 ,  邱毅伟

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法，包括：在标准直写视场内将设定功率为P0的激光照射至光刻胶上产生艾里斑，获取艾里斑长度l，以确定标准直写视场中光刻胶的刻蚀深度b0；基于b0确定标准直写视场中对应光刻胶的刻蚀体积V0；获取标准直写视场中刻蚀体积为V0的光刻胶发出的标准荧光强度F0；基于F0＝ΩV0确定Ω，Ω为单位体积光刻胶发出的荧光强度；对样本直写视场进行分割，以获得至少两个样本视场分区，获取第n个样本视场分区的面积Sn、激光设定功率Pn以及实际荧光强度为Fn'；基于Ω、Sn以及Fn'确定第n个样本视场分区的实际刻写功率Pn'；基于Pn'和Pn确定第n个样本视场分区的补偿系数Ψn；基于所有样本视场分区的补偿系数构件刻写功率补偿模板。

公开(公告)号：CN116449648A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202310274942.8

申请日：2023-03-17

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  邱毅伟 ,  庞茂璋 ,  曹春 ,  沈小明 ,  詹刚垚 ,  关玲玲 ,  李佳伟 ,  钱全立 ,  孙秋媛 ,  赖慧颖 ,  付欢 ,  马鹏程 ,  夏贤梦 ,  刘旭

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明公开了一种具有高精度和低表面粗糙度的飞秒激光直写光刻胶及其应用。所述光刻胶包含单体和光引发剂，所述单体包含稀释单体和直写单体；所述的稀释单体通过如下方法制备：式(I)所示的异氰酸酯丙烯酸酯中的至少一种与式(II)所示的全氟二醇中的至少一种反应生成含氟丙烯酸酯，以该含氟丙烯酸酯为稀释单体。本发明提供了所述的光刻胶在飞秒激光直写制备微结构中的应用。本发明不仅可使飞秒激光直写结构具有较高的直写精度，而且可使其具有较低的表面粗糙度，还能增强直写结构与基底的附着力。CH2＝CR2‑C(O)‑(O‑R3)m‑NCO(I)HO‑CH2‑R1‑CH2‑OH(II)