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公开(公告)号：CN116880010B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311143878.6
申请日：2023-09-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于铌酸锂的集成环形布拉格金属光栅耦合器及制备方法，包括衬底层、铌酸锂限制层、铌酸锂波导层、环形布拉格金属光栅层以及光纤；所述铌酸锂限制层设置于衬底层表面；所述铌酸锂波导层设置于铌酸锂限制层表面，且包括输入直波导、锥形波导、耦合波导，其中，输入直波导的一端与锥形波导的窄端等宽度相连，锥形波导的宽端与耦合波导的一端等宽度相连；所述环形布拉格金属光栅层设置于耦合波导上；所述光纤位于环形布拉格金属光栅层上方，不与环形布拉格金属光栅层直接接触。本发明通过制作工艺简单，流程独立且耦合效率高，在制备量产和成本优化等方面具有独特的优势，可广泛应用于铌酸锂片上集成器件和系统中。
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公开(公告)号：CN117118523A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311328293.1
申请日：2023-10-13
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本说明书公开了一种信息传输系统、方法、装置、存储介质及电子设备。所述信息传输方法包括：接收光源生成的指定光信号，其中，指定光信号的不同偏振态用于传输各不同的指定图像数据，针对指定光信号的每个偏振态，通过该偏振态对应的起偏器，从指定光信号中得到该偏振态下的线偏振光信号，并将线偏振光信号入射至指定超表面，通过指定超表面基于入射的线偏振光信号，得到线偏振光信号对应的出射光信号，通过出射光信号，在接收模块的指定区域得到线偏振光信号对应的指定图像数据，并根据接收到的指定图像数据进行任务执行。
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公开(公告)号：CN116880010A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202311143878.6
申请日：2023-09-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于铌酸锂的集成环形布拉格金属光栅耦合器及制备方法，包括衬底层、铌酸锂限制层、铌酸锂波导层、环形布拉格金属光栅层以及光纤；所述铌酸锂限制层设置于衬底层表面；所述铌酸锂波导层设置于铌酸锂限制层表面，且包括输入直波导、锥形波导、耦合波导，其中，输入直波导的一端与锥形波导的窄端等宽度相连，锥形波导的宽端与耦合波导的一端等宽度相连；所述环形布拉格金属光栅层设置于耦合波导上；所述光纤位于环形布拉格金属光栅层上方，不与环形布拉格金属光栅层直接接触。本发明通过制作工艺简单，流程独立且耦合效率高，在制备量产和成本优化等方面具有独特的优势，可广泛应用于铌酸锂片上集成器件和系统中。
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公开(公告)号：CN117192666A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311241712.8
申请日：2023-09-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本公开涉及片上自由曲面反射透镜及其形成方法、光电子器件。本公开实施方式提供一种用于形成片上自由曲面反射透镜的方法，该方法包括：形成堆叠于衬底层的具有入射端、反射面及出射端的波导层，入射端和反射面沿垂直于堆叠方向的第一方向相对设置，反射面和出射端沿垂直于堆叠方向的第二方向相对设置，反射面用于将从入射端入射的光反射向出射端，其中，形成反射面的步骤包括：形成形状为自由曲面的反射面，且反射面用于将处在由第一方向和第二方向限定的面内的光聚焦；及形成覆盖波导层和衬底层的上包层。该方法所形成的片上自由曲面反射透镜能够反射光并能够实现聚焦，由于改变了光的传播方向，在提高聚焦效率的同时减小了透镜尺寸。
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公开(公告)号：CN117192674A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311262125.7
申请日：2023-09-27
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯的硅波导偏振滤波器，包括依次设置的硅衬底层、二氧化硅下包层、硅波导、聚合物波导和二氧化硅上包层；所述聚合物波导中混有石墨烯。石墨烯浓度范围为0.1mg/ml‑1mg/ml。还公开了一种基于石墨烯的硅波导偏振滤波器的制备方法，先在硅衬底层上表面制备二氧化硅下包层，然后在二氧化硅下包层上表面制备硅薄膜层，再将硅薄膜层图案化形成硅波导，将石墨烯混入EPO聚合物光刻胶中，在硅波导上表面制备混有石墨烯的聚合物波导，最后在混有石墨烯的聚合物波导表面制备二氧化硅上包层。本发明能够实现对带有石墨烯的聚合物波导位置、厚度和尺寸的精确控制和图案化，适用于偏振滤波器的精准高效制备和广泛应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117055211A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311107855.X
申请日：2023-08-30
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本申请提供一种光学加密结构的设计方法及近远场多偏振态光学加密系统。光学加密结构的设计方法包括获取待加密的远场目标图像和近场目标图像，远场目标图像包括第一远场目标图像和第二远场目标图像，近场目标图像包括第一近场目标图像和第二近场目标图像；利用优化算法和目标振幅相位关系进行优化，得到优化后的第一远场目标相位分布和第二远场目标相位分布以及第一近场目标振幅分布和第二近场目标振幅分布；对若干候选微纳结构进行筛选，得到目标微纳结构；排列多个目标微纳结构，形成光学加密结构。通过本申请提供的设计方法得到的光学加密结构可以同时加密四个图像，实现多种偏振态光信号的高效加密，且系统结构简单。
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公开(公告)号：CN117026194A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311150986.6
申请日：2023-09-07
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本公开是关于一种磁控溅射镀膜装置及薄膜制备方法。磁控溅射镀膜装置包括传递仓、镀膜仓、可开合的连通部以及传递部。镀膜仓内设有供电端、靶位组件和基底组件，供电端与靶位组件和基底组件分别电连接。连通部设于传递仓和镀膜仓之间，用于连通或阻断传递仓和镀膜仓。传递部可活动地设于传递仓和镀膜仓。薄膜制备方法包括对镀膜仓抽真空；对基底进行物理清洗；将基底放入传递仓中的传递部，对传递仓抽真空；打开连通部，将基底运输至镀膜仓；对基底进行化学清洗；对靶材进行预溅射；在基底表面沉积薄膜。本公开提供的磁控溅射镀膜装置和薄膜制备方法能够减少抽真空时间，提高镀膜效率，并且生成致密均匀的薄膜。
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公开(公告)号：CN117250829A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311186933.X
申请日：2023-09-14
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/16
Abstract: 本申请提供一种光刻胶除泡装置、系统及方法。其中，该光刻胶除泡装置包括光刻胶喷胶器、气泡检测传感器和气泡排除器，光刻胶喷胶器用于将光刻胶喷在载体表面。气泡检测传感器用于获取所述光刻胶中的气泡所在的位置。气泡排除器用于排除所述光刻胶中的气泡。可实现，在将光刻胶喷在载体表面之后，通过气泡检测传感器确定光刻胶中的气泡所在的位置，然后通过气泡排除器排除光刻胶表面产生的气泡，从而可以避免涂胶过程中气泡对光刻胶膜的质量产生影响，相较于常规方法，滴胶之后表面产生气泡的晶圆不需要去胶反工，提升了光刻工艺的效率和良率。
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公开(公告)号：CN117192666B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202311241712.8
申请日：2023-09-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本公开涉及片上自由曲面反射透镜及其形成方法、光电子器件。本公开实施方式提供一种用于形成片上自由曲面反射透镜的方法，该方法包括：形成堆叠于衬底层的具有入射端、反射面及出射端的波导层，入射端和反射面沿垂直于堆叠方向的第一方向相对设置，反射面和出射端沿垂直于堆叠方向的第二方向相对设置，反射面用于将从入射端入射的光反射向出射端，其中，形成反射面的步骤包括：形成形状为自由曲面的反射面，且反射面用于将处在由第一方向和第二方向限定的面内的光聚焦；及形成覆盖波导层和衬底层的上包层。该方法所形成的片上自由曲面反射透镜能够反射光并能够实现聚焦，由于改变了光的传播方向，在提高聚焦效率的同时减小了透镜尺寸。
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公开(公告)号：CN117055211B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311107855.X
申请日：2023-08-30
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本申请提供一种光学加密结构的设计方法及近远场多偏振态光学加密系统。光学加密结构的设计方法包括获取待加密的远场目标图像和近场目标图像，远场目标图像包括第一远场目标图像和第二远场目标图像，近场目标图像包括第一近场目标图像和第二近场目标图像；利用优化算法和目标振幅相位关系进行优化，得到优化后的第一远场目标相位分布和第二远场目标相位分布以及第一近场目标振幅分布和第二近场目标振幅分布；对若干候选微纳结构进行筛选，得到目标微纳结构；排列多个目标微纳结构，形成光学加密结构。通过本申请提供的设计方法得到的光学加密结构可以同时加密四个图像，实现多种偏振态光信号的高效加密，且系统结构简单。
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