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公开(公告)号：CN102873052B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201210241658.2
申请日：2012-07-12
Abstract: 本发明的目的在于在金属件（3）中，能够使现有技术中由于振动波（基于振动波的空穴现象）的传播不充分而残留的粘着物浮起，在短时间内得到期望的清洗结果，其中该金属件（3）内形成有在该金属件（3）宽度方向上长、且在该金属件（3）的前端开口的缝隙（7）。本发明提供的金属件的清洗方法包括：使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液（L）通过缝隙（7）向金属件内部流入；由此状态，使气体在缝隙（7）的宽度方向的全长通过缝隙（7）流入金属件内部；其后，使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液L通过缝隙（7）向金属件内部流入。
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公开(公告)号：CN101718955A
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200910178719.3
申请日：2009-09-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统(1)，其容易对联合涂敷装置(3)与搬出装置(5)的动作时机进行控制，并能够缩短时间。具有：涂敷装置(3)，其具有为了交接涂敷了涂敷液的基板(W)而在载置该基板(W)的状态下上下动作的销(14)；搬出装置(5)，其具有为了搬出所述基板(W)而相对于涂敷装置(3)进行接近远离移动的手部(31)。涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间由通信线(L5)进行信号的发送接收。基于通过通信线(L5)在涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间发送的信号，通过在用于交接基板(W)的销(14)的动作结束前使手部(31)开始移动，而使销(14)的动作与手部(31)的移动并行。
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公开(公告)号：CN102873052A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210241658.2
申请日：2012-07-12
Abstract: 本发明的目的在于在金属件（3）中，能够使现有技术中由于振动波（基于振动波的空穴现象）的传播不充分而残留的粘着物浮起，在短时间内得到期望的清洗结果，其中该金属件（3）内形成有在该金属件（3）宽度方向上长、且在该金属件（3）的前端开口的缝隙（7）。本发明提供的金属件的清洗方法包括：使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液（L）通过缝隙（7）向金属件内部流入；由此状态，使气体在缝隙（7）的宽度方向的全长通过缝隙（7）流入金属件内部；其后，使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液L通过缝隙（7）向金属件内部流入。
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公开(公告)号：CN101713924B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200910178723.X
申请日：2009-09-28
Applicant: 东丽工程株式会社
Inventor： 釜谷学
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板载置方法。在通过设置为能够从载物台进行升降动作的提升销进行向载物台上载置被处理基板的基板处理装置中，缩短生产节拍时间，提高生产效率。基板处理装置(1)，具有：载物台(3)，其载置基板(K)；提升销(41)，其设置为能够从形成于载物台的贯通孔(33)进行升降动作且能够用前端部支承基板；销驱动控制部(43、10)，其驱动控制提升销，将被供给到载物台的上方的搬入位置(P2)的基板载置在载物台上，其中，销驱动控制部如下进行驱动控制：通过使提升销上升而用提升销的前端部支承位于搬入位置的基板，在保持于比搬入位置高的位置后，通过使提升销下降，将基板载置在载物台上。
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公开(公告)号：CN101718955B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200910178719.3
申请日：2009-09-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统(1)，其容易对联合涂敷装置(3)与搬出装置(5)的动作时机进行控制，并能够缩短时间。具有：涂敷装置(3)，其具有为了交接涂敷了涂敷液的基板(W)而在载置该基板(W)的状态下上下动作的销(14)；搬出装置(5)，其具有为了搬出所述基板(W)而相对于涂敷装置(3)进行接近远离移动的手部(31)。涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间由通信线(L5)进行信号的发送接收。基于通过通信线(L5)在涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间发送的信号，通过在用于交接基板(W)的销(14)的动作结束前使手部(31)开始移动，而使销(14)的动作与手部(31)的移动并行。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101713924A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910178723.X
申请日：2009-09-28
Applicant: 东丽工程株式会社
Inventor： 釜谷学
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板载置方法。在通过设置为能够从载物台进行升降动作的提升销进行向载物台上载置被处理基板的基板处理装置中，缩短生产节拍时间，提高生产效率。基板处理装置(1)，具有：载物台(3)，其载置基板(K)；提升销(41)，其设置为能够从形成于载物台的贯通孔(33)进行升降动作且能够用前端部支承基板；销驱动控制部(43、10)，其驱动控制提升销，将被供给到载物台的上方的搬入位置(P2)的基板载置在载物台上，其中，销驱动控制部如下进行驱动控制：通过使提升销上升而用提升销的前端部支承位于搬入位置的基板，在保持于比搬入位置高的位置后，通过使提升销下降，将基板载置在载物台上。
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公开(公告)号：CN114054290A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202110862389.0
申请日：2021-07-29
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: [课题]提供一种涂布装置，其能够通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均。[解决手段]一种涂布装置，其使由载台单元保持的基板与涂布单元相对移动，同时从涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，其中，载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用吸附保持部保持浮起在浮起载台部上的基板的状态下，移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，吸附保持部为下述构成，其具备在与浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部。
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公开(公告)号：CN101518769B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200910006827.2
申请日：2009-02-27
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种通过迅速产生吸附基板的吸引力而缩短吸附时间，从而能够提高涂敷装置整体的生产周期的涂敷装置。其具备：基板保持机构，其在形成于载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板吸附保持于载物台的表面；涂敷组件，其相对于基板相对移动的同时喷出涂敷液，其中，在基板保持机构的吸引孔连通连接与产生吸引力的吸引力产生装置连接的主配管及副配管，在主配管设有开闭主配管路径的主阀，在副配管设有开闭副配管路径的副阀，并设置有具备储存部的储存箱，所述储存部在比该副阀靠吸引力产生装置侧具有规定容量，储存部具有比一定区间的副配管的容量大的容量。
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公开(公告)号：CN101428264A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810174564.1
申请日：2008-11-10
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 一种即使在基板往工作台上固定需要时间的情况下也能够抑制涂敷装置整体的作业周期长期化的涂敷装置及涂敷方法。这种涂敷装置的涂敷方法包括在工作台的表面载置基板的基板载置工序、在载置于工作台的表面的基板上形成初始膜的初始膜形成工序和从涂敷单元喷出涂敷液且在基板上形成涂敷膜的涂敷膜形成工序，基板载置工序具有在工作台的表面吸附基板的吸附工序，该吸附工序包括初始吸附工序和主要吸附工序，初始吸附工序是吸附包括涂敷开始位置的基板的初始膜形成区域，主要吸附工序是吸附除了初始膜形成区域以外的基板的涂敷膜形成区域，在结束初始吸附工序后、结束主要吸附工序前，开始初始膜形成工序。
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公开(公告)号：CN101428264B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200810174564.1
申请日：2008-11-10
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 一种即使在基板往工作台上固定需要时间的情况下也能够抑制涂敷装置整体的作业周期长期化的涂敷装置及涂敷方法。这种涂敷装置的涂敷方法包括在工作台的表面载置基板的基板载置工序、在载置于工作台的表面的基板上形成初始膜的初始膜形成工序和从涂敷单元喷出涂敷液且在基板上形成涂敷膜的涂敷膜形成工序，基板载置工序具有在工作台的表面吸附基板的吸附工序，该吸附工序包括初始吸附工序和主要吸附工序，初始吸附工序是吸附包括涂敷开始位置的基板的初始膜形成区域，主要吸附工序是吸附除了初始膜形成区域以外的基板的涂敷膜形成区域，在结束初始吸附工序后、结束主要吸附工序前，开始初始膜形成工序。
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