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公开(公告)号：CN1508630A
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：CN200310122324.4
申请日：2003-12-16
Applicant: 东丽工程株式会社
CPC classification number: B23K26/08 , B23K26/02 , B23K26/042 , B23K26/082 , B23K2101/007
Abstract: 一种用至少1个声光光偏向器使激光振荡器输出的激光束在水平面和垂直面的至少1个平面上扫描，用圆点按时间序列形成由一维和二维中的至少一方构成的标记；然后，用电流计扫描设备使该标记在基板上二维扫描这样地照射的识别码激光标记方法和装置。
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公开(公告)号：CN114007803B
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202080043575.5
申请日：2020-03-12
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B23K26/36 , B23K26/062 , B23K26/066 , B23K26/57 , H01L21/301 , H01L21/52
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1841204A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610066097.1
申请日：2006-03-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的外围曝光装置具有下列部件：XY支承台(2)，支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1)；支承XY支承台(2)的旋转工作台(3)；对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4)；保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5)；检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6)；向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7)；以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。
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公开(公告)号：CN1834789A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610065501.3
申请日：2006-03-20
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
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公开(公告)号：CN114007803A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202080043575.5
申请日：2020-03-12
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B23K26/36 , B23K26/062 , B23K26/066 , B23K26/57 , H01L21/301 , H01L21/52
Abstract: 提供激光加工装置，即使在工件上以纵横规定间距排列成矩阵状的多个芯片中的加工对象芯片不均匀地分布有多个，也能够迅速地进行加工。具体而言，激光加工装置具有：激光振荡器；相对移动部；光束尺寸变更部，其变更能够通过1次发射的光束照射对工件进行加工的光束照射范围；加工芯片分布信息取得部，其取得在工件上分布的加工对象芯片的分布信息；加工图案生成部，其基于加工对象芯片的分布信息，按每个加工对象的工件生成加工图案；以及加工控制部，其基于加工图案，对在工件上分布的多个加工对象芯片进行逐次加工，加工图案生成部具有统一加工区域搜索部，该统一加工区域搜索部搜索能够通过1次发射对相邻的多个加工对象芯片进行集中加工的区域。
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公开(公告)号：CN1841204B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200610066097.1
申请日：2006-03-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的外围曝光装置具有下列部件：XY支承台(2)，支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1)；支承XY支承台(2)的旋转工作台(3)；对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4)；保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5)；检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6)；向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7)；以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。
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公开(公告)号：CN100517076C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200610065501.3
申请日：2006-03-20
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
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