公开(公告)号：CN112680109A

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN202011111565.9

申请日：2020-10-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金亨默 ,  张根三 ,  姜东宪 ,  李锺元

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的化学机械抛光浆料组合物和使用其来抛光铜膜的方法。化学机械抛光浆料组合物包含：自极性溶剂和非极性溶剂当中选出的至少一溶剂；以及硅烷改性的抛光颗粒，其中硅烷由式1表示。

公开(公告)号：CN112680109B

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN202011111565.9

申请日：2020-10-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金亨默 ,  张根三 ,  姜东宪 ,  李锺元

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的化学机械抛光浆料组合物和使用其来抛光铜膜的方法。化学机械抛光浆料组合物包含：自极性溶剂和非极性溶剂当中选出的至少一溶剂；以及硅烷改性的抛光颗粒，其中硅烷由式1表示。

公开(公告)号：CN117987014A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202311398081.0

申请日：2023-10-26

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 张根三 ,  金元中 ,  朴泰远 ,  李知虎 ,  李义郞 ,  金眞敎 ,  李东炫 ,  李昌锡

IPC: C09G1/02 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06 ,  H01L21/321

Abstract: 在本文中公开一种用于对钨进行抛光的化学机械抛光浆料组合物以及使用其对钨进行抛光的方法。所述用于对钨进行抛光的化学机械抛光浆料组合物包括：选自极性溶剂和非极性溶剂的至少一种溶剂；磨料剂；以及由式3表示的化合物或其络合物。本发明可提高抛光表面的平整度。

公开(公告)号：CN115141549A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210299492.3

申请日：2022-03-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金龙国 ,  沈秀姸 ,  张根三 ,  黄慈英 ,  金廷熙 ,  李贤玗 ,  姜东宪 ,  李锺元

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明提供一种用于抛光钨图案晶片的化学机械抛光浆料组合物和使用其抛光钨图案晶片的方法。化学机械抛光组合物包含：溶剂；以及满足关系式1和关系式2的二氧化硅。关系式1和关系式2与说明书所定义的相同。本发明确保抛光速率和平整度的改进。