公开(公告)号：CN116430672A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202211466675.6

申请日：2022-11-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛乘旭 ,  朴裕信 ,  金昇炫 ,  朴相喆 ,  金尙美 ,  崔世一 ,  崔熙瑄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  G03F7/038 ,  C08G10/02

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元，其中，化学式1的定义如本说明书中所描述。[化学式1]

公开(公告)号：CN114660897A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111572845.4

申请日：2021-12-21

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 元东勋 ,  兪龙植 ,  李贤洙 ,  崔世一 ,  崔熙瑄

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种包含聚合物及溶剂的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述聚合物包含衍生自由化学式1表示的化合物的部分。在化学式1中，X1到X3、A1到A3及L1到L3的定义如说明书中所阐述。[化学式1]。

公开(公告)号：CN118502198A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202410173719.9

申请日：2024-02-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔熙瑄 ,  金瑆焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层形成图案的方法，硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂。由本发明硬掩模组合物获得的硬掩模层可具有改进的抗蚀刻性。[化学式1]#imgabs0#