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公开(公告)号：CN118915385A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410528195.0
申请日：2024-04-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 崔世一
IPC: G03F7/004 , H01L21/308 , H01L21/311 , H01L21/3213 , G03F7/20 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物，包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层，以及一种使用包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层形成图案的方法，硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118915386A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410529694.1
申请日：2024-04-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 崔世一
IPC: G03F7/004 , H01L21/308 , H01L21/311 , H01L21/3213 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物，包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层，以及使用包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层形成图案的方法，硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116430672A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211466675.6
申请日：2022-11-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元，其中，化学式1的定义如本说明书中所描述。[化学式1]
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公开(公告)号：CN119431748A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410984765.7
申请日：2024-07-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由以下化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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