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公开(公告)号:CN100477227C
公开(公告)日:2009-04-08
申请号:CN200610126608.4
申请日:2006-08-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/105 , H01L23/532 , H01L21/8239 , H01L21/768 , H01L21/318
CPC classification number: H01L21/3185 , H01L21/02118 , H01L21/02167 , H01L21/0217 , H01L21/0228 , H01L21/02362 , H01L21/318 , H01L27/10885
Abstract: 半导体存储器件包括半导体衬底。在半导体衬底上设置层间介质。在层间介质上设置位线。位线隔片由包含硼和/或碳的氮化物层所制成,并覆盖位线的侧壁。还提供了制造半导体存储器件的方法。
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公开(公告)号:CN102087879A
公开(公告)日:2011-06-08
申请号:CN201010576815.6
申请日:2010-12-07
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11C16/02
CPC classification number: H01R13/44 , G06F1/16 , G06F1/185 , G06K19/07732 , G06K19/07743 , G11C5/05 , G11C16/06 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2924/15174 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明提供一种存储卡和电子装置。该存储卡包括用于与外部电子装置电连接的互连端子。互连端子可以与存储卡的前面隔开一距离,该距离大于互连端子的长度。备选地,存储卡可以在其前面与之前的互连端子之间包括其它互连端子。之前的互连端子和之后的互连端子可以用于与不同类型的电子装置电连接。
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公开(公告)号:CN1949518A
公开(公告)日:2007-04-18
申请号:CN200610126608.4
申请日:2006-08-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/105 , H01L23/532 , H01L21/8239 , H01L21/768 , H01L21/318
CPC classification number: H01L21/3185 , H01L21/02118 , H01L21/02167 , H01L21/0217 , H01L21/0228 , H01L21/02362 , H01L21/318 , H01L27/10885
Abstract: 半导体存储器件包括半导体衬底。在半导体衬底上设置层间介质。在层间介质上设置位线。位线隔片由包含硼和/或碳的氮化物层所制成,并覆盖位线的侧壁。还提供了制造半导体存储器件的方法。
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