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公开(公告)号：CN1713365A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510077400.3
申请日：2005-06-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/68 , H01L21/20 , G02F1/133 , C23C16/458
CPC classification number: B23Q1/012 , B23Q1/626 , B23Q2210/006
Abstract: 一种台架设备包括：一对第一引导件，相互平行地放置；一对滑动件，分别结合到所述一对第一引导件上以与该第一引导件一起移动；第二引导件，结合到所述一对滑动件上沿着该滑动件移动；头部，结合到所述第二引导件上以便和所述第二引导件一起移动并沿着该第二引导件移动；转动单元，设置在所述滑动件和所述第二引导件之间并绕着轴线转动所述第二引导件，所述轴线与所述滑动件和所述头部的移动方向垂直。所述台架设备能够在不同的方向调整所述头部的运动。
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公开(公告)号：CN100373578C
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200510077400.3
申请日：2005-06-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/68 , H01L21/20 , G02F1/133 , C23C16/458
CPC classification number: B23Q1/012 , B23Q1/626 , B23Q2210/006
Abstract: 一种台架设备包括：一对第一引导件，相互平行地放置；一对滑动件，分别结合到所述一对第一引导件上以与该第一引导件一起移动；第二引导件，结合到所述一对滑动件上沿着该滑动件移动；头部，结合到所述第二引导件上以便和所述第二引导件一起移动并沿着该第二引导件移动；转动单元，设置在所述滑动件和所述第二引导件之间并绕着轴线转动所述第二引导件，所述轴线与所述滑动件和所述头部的移动方向垂直。所述台架设备能够在不同的方向调整所述头部的运动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111180356B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN201910479796.6
申请日：2019-06-04
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了结合基底的设备和结合基底的方法。基底结合设备包括下吸盘、上吸盘、位于上吸盘的中心部分上的电致动器、压力传感器以及控制器。下吸盘可以支撑下基底，上吸盘可以面对下吸盘，使得上吸盘的下表面面对下吸盘的上表面，并且上吸盘可以支撑上基底。电致动器可以使结合销穿过上吸盘下降以将压力施加到支撑在上吸盘上的上基底。压力传感器可以位于支撑在下吸盘上的下基底下方。压力传感器可以实时地感测由结合销施加到压力传感器的下降压力。控制器可以控制由结合销施加的下降压力。
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公开(公告)号：CN111230733A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201910795609.5
申请日：2019-08-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/00
Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。
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公开(公告)号：CN102555489A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110348625.3
申请日：2011-11-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16585 , B41J2/16526 , B41J2/16538 , B41J2/16552
Abstract: 本发明公开了一种喷墨头清洗设备和喷墨头清洗方法。根据示例实施例，在吹洗操作之后以非接触的方式从喷墨头去除墨渣的喷墨头清洗设备包括清洗刀和驱动单元。清洗刀与喷墨头底部隔开一定距离。驱动单元构造为在平行于喷墨头底部的方向上以移动清洗刀。清洗刀包括平行于喷墨头底部的平坦的上表面，在清洗刀的平坦的上表面和喷墨头底部之间产生墨膜。清洗刀还包括在清洗刀的上表面中纵向伸长的凹槽。
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公开(公告)号：CN111230733B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN201910795609.5
申请日：2019-08-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/00
Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。
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公开(公告)号：CN111180356A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201910479796.6
申请日：2019-06-04
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了结合基底的设备和结合基底的方法。基底结合设备包括下吸盘、上吸盘、位于上吸盘的中心部分上的电致动器、压力传感器以及控制器。下吸盘可以支撑下基底，上吸盘可以面对下吸盘，使得上吸盘的下表面面对下吸盘的上表面，并且上吸盘可以支撑上基底。电致动器可以使结合销穿过上吸盘下降以将压力施加到支撑在上吸盘上的上基底。压力传感器可以位于支撑在下吸盘上的下基底下方。压力传感器可以实时地感测由结合销施加到压力传感器的下降压力。控制器可以控制由结合销施加的下降压力。
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