公开(公告)号：CN117810105A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202311192706.8

申请日：2023-09-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴钟赫 ,  金觥乐 ,  金智雄 ,  朴惠绿 ,  王諪炫 ,  李明俊 ,  赵润济 ,  赵重熙 ,  黄允

IPC: H01L21/66 ,  G01D21/02

Abstract: 一种基板分析系统，包括：装载锁定模块，其被配置为装载或卸载其上形成有图案层的基板；研磨模块，其被配置为形成研磨表面，图案层的至少一部分从研磨表面被去除；深度测量模块，其被配置为测量形成在研磨表面上的分析区域的研磨深度；成像模块，其被配置为捕获分析区域的二维图像；以及控制模块，当研磨深度比设置的目标深度浅时，控制模块控制基板循环通过研磨模块、深度测量模块和成像模块，其中，研磨模块根据基于离子束的强度图接收的扫描轮廓来调整离子束的路径，使得离子束在研磨区域中水平地移动。

公开(公告)号：CN119108250A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202410737403.8

申请日：2024-06-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵重熙 ,  赵润济 ,  金觥乐 ,  朴钟赫

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/02 ,  H01J37/28

Abstract: 一种半导体制造装置包括：电子束源，其被配置为发射电子束；多个会聚透镜，其设置在载物台与电子束源之间，在载物台上安放包括结构的物体；物镜，其设置在多个会聚透镜与载物台之间；光圈，其设置在多个会聚透镜之间；以及控制器，其被配置为获取根据物镜与物体之间的工作距离的多个原始图像，从多个原始图像获取指示结构的图案图像，获取指示电子束在物体上的分布的多个核心图像，获取指示结构在多个原始图像中的相对位置的多个位置矢量，以及基于指示根据工作距离的多个位置矢量的运动的运动矢量调整光圈的位置。

公开(公告)号：CN115775714A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211053783.0

申请日：2022-08-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵润济 ,  孙秀奉 ,  李明俊 ,  李泰衡 ,  林蕊呢

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/21 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66

Abstract: 提供了扫描电子显微镜(SEM)装置和半导体制造装置。该SEM装置包括：电子束源，其被配置为发射电子束；透镜单元，其设置在电子束源与被配置为安置包括具有图案的结构的物体的台之间，并且包括扫描线圈和像散调节器，扫描线圈被配置为生成电磁场以提供透镜；以及控制单元。控制单元被配置为改变透镜单元与物体之间的工作距离以获得多个原始图像，从多个原始图像获得其中出现结构的图案图像和其中出现电子束在物体上的分布的多个核心图像，并且利用从多个核心图像提取的特征值来控制像散调节器调节透镜单元的聚焦和像散。