公开(公告)号：CN107587122A

公开(公告)日：2018-01-16

申请号：CN201710259823.X

申请日：2017-04-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李昌润 ,  李柱铉 ,  朴基寿 ,  韩奎熙 ,  李承勋 ,  田炳哲

IPC: C23C16/54 ,  C23C16/44 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23C14/5813 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  C23C16/56 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02266 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/78 ,  H01L22/26

Abstract: 本发明提供了一种能够在沉积处理中检测腔室的内部状态的沉积处理监视系统以及一种控制沉积处理的方法和一种利用该系统制造半导体器件的方法。沉积处理监视系统包括：设施盖，其构造为限定用于沉积处理的空间；位于设施盖中的腔室，所述腔室被半透明圆顶盖覆盖，并且具有其上放置沉积目标的支承件；布置在设施盖中的多个灯，所述灯分别布置在腔室的上部和下部，并且所述灯构造为在沉积处理中将辐射热能供应至腔室中；以及布置在腔室外的激光传感器，该激光传感器构造为用激光束辐射圆顶盖并且检测透过圆顶盖传输的激光束的强度，其中，基于检测到的激光束的强度来确定圆顶盖所涂布的副产物的状态。