光耦合器及其制作方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1153990C

    公开(公告)日:2004-06-16

    申请号:CN99815419.9

    申请日:1999-10-27

    CPC classification number: G02B6/125

    Abstract: 提供了一种光耦合器及其制造方法,该光耦合器具有一输入光波导(I)和N个输出光波导(O1、O2、...),并且将从输入光波导(I)接收到的光信号分割成N个光信号。该光耦合器还包括:多个Y型接头光波导,其以m个级配置,用于在每一级中将接收到的光信号分支为两个光信号;和多个弯曲的光波导,其交替地连接到Y型接头光波导,至少一个弯曲光波导连接在第m级中Y型接头光波导和输出光波导之间,其中,当光信号的引导方向被设置为纵轴,并且输入光波导与第一级Y型接头光波导之间的接头被设置为开始点时,确定Y型接头光波导和弯曲光波导的位置和尺寸,以便使范围从开始点至每个输出光波导的N个路径中的最长路径最小,光耦合器是采用Y型接头光波导模块(J11、J12、...)连接光波导模块(B11、B21、...)制造的,从而能够设计各种Y型接头光波导结构。另外,提高了模块布局的自由度,从而使光耦合器的设计容易。

    用于光纤通信的聚酰亚胺

    公开(公告)号:CN1270182A

    公开(公告)日:2000-10-18

    申请号:CN00105770.7

    申请日:2000-04-06

    Abstract: 一种用于光纤通信的聚酰亚胺,由式(1)表示,其中R1和R2独立地选自下组:CF3,CCl3,非取代的芳香环基团和卤代的芳香环基团;R3和R4独立地选自下组:Cl,F,I,Br,CF3,CCl3,非取代的芳香环基团和卤代的芳香环基团;n是1至39的整数。这种用于光纤通信的聚酰亚胺具有优良的耐热性,可避免由于折射率的增加产生的光吸收损失的增加以及由聚酰亚胺膜的表面张力小而产生的粘合性能和涂覆性能降低。

    使用焊剂的光学纤维阵模块及其制造方法

    公开(公告)号:CN1209557A

    公开(公告)日:1999-03-03

    申请号:CN98117318.7

    申请日:1998-08-13

    CPC classification number: G02B6/3855 G02B6/3833 G02B6/3834

    Abstract: 本发明涉及一种使用焊剂的纤维阵模块及其制造方法,该方法包括形成孔洞的步骤,在预定间隔的硅晶片或一陶瓷基片中,在孔壁及基片的整个表面上形成一金属层,允许孔壁及基片的整个表面涂覆有焊剂合金材料,把有金属外层的光纤插入孔洞,把由热的组合结构光纤定位在孔洞的中心,插入的光纤由加热或紫外线把注入环氧树脂固化,制造一纤维阵模块能准确贴附到光波导装置,及磨光伸出孔洞的光纤所形成的光纤模块的末端,使它发光照亮。

    光纤无源校准装置及校准方法

    公开(公告)号:CN1204777A

    公开(公告)日:1999-01-13

    申请号:CN98102700.8

    申请日:1998-07-02

    Abstract: 一种光纤无源校准装置及其方法,用以无源校准集成光学装置的光纤和输入/输出光波导,该装置包括:沿平面基片纵向在平面基片上形成光波导,光波导的芯子比平面的基片要短;沿平面的基片的纵向在平面基片上形成预定长度的光纤安装部分,以使光波导和光纤彼此接触,用以接收光纤;及向位于光纤安装部分和光波导的芯子之间的空腔充填随紫外线辐射其折射率增加的材料以使材料的折射率和光纤的芯子的折射率没有明显不同。

    多模光耦合器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1182884A

    公开(公告)日:1998-05-27

    申请号:CN97122715.2

    申请日:1997-11-18

    Inventor: 李勇雨 李泰衡

    CPC classification number: G02B6/30 G02B6/1221

    Abstract: 提供了一个多模光耦合器和用于制造多模光耦合器的方法。该多模光耦合器包括一个第一光纤,一个第二光纤,一个光传输介质,一个信道传输路径,以及一个覆盖层。该多模光耦合器使用一个塑料包层光纤或一个塑料光纤,并且具有一个芯子扩展效应。同时,在光之间的连接是容易实现的,使得可以实现低损耗的光传输。

    扫描电子显微镜装置、半导体制造装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN115775714A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211053783.0

    申请日:2022-08-30

    Abstract: 提供了扫描电子显微镜(SEM)装置和半导体制造装置。该SEM装置包括:电子束源,其被配置为发射电子束;透镜单元,其设置在电子束源与被配置为安置包括具有图案的结构的物体的台之间,并且包括扫描线圈和像散调节器,扫描线圈被配置为生成电磁场以提供透镜;以及控制单元。控制单元被配置为改变透镜单元与物体之间的工作距离以获得多个原始图像,从多个原始图像获得其中出现结构的图案图像和其中出现电子束在物体上的分布的多个核心图像,并且利用从多个核心图像提取的特征值来控制像散调节器调节透镜单元的聚焦和像散。

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