Invention Publication
CN116230746A 一种晶体管及其制备方法
审中-实审
- Patent Title: 一种晶体管及其制备方法
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Application No.: CN202310185144.8Application Date: 2023-03-01
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Publication No.: CN116230746APublication Date: 2023-06-06
- Inventor: 段新绿 , 卢年端 , 王桂磊 , 赵超 , 李泠
- Applicant: 北京超弦存储器研究院 , 中国科学院微电子研究所
- Applicant Address: 北京市大兴区经济技术开发区科创十街18号京东贝科技园11号楼4层;
- Assignee: 北京超弦存储器研究院,中国科学院微电子研究所
- Current Assignee: 北京超弦存储器研究院,中国科学院微电子研究所
- Current Assignee Address: 北京市大兴区经济技术开发区科创十街18号京东贝科技园11号楼4层;
- Agency: 北京华沛德权律师事务所
- Agent 房德权
- Main IPC: H01L29/10
- IPC: H01L29/10 ; H01L29/417 ; H01L29/423 ; H01L21/336 ; H01L29/78

Abstract:
本申请实施例提供了一种晶体管及其制备方法,涉及半导体器件技术领域,以解决目前的晶体管在小型化过程中,通过缩短沟道长度缩小晶体管的体积会导致短沟道效应,影响晶体管的性能的问题。该晶体管包括:衬底层;第一电极,所述第一电极设置于所述衬底层的一侧;第二电极,所述第二电极设置于所述第一电极远离所述衬底层的一侧;第一绝缘层,所述第一绝缘层设置于所述第一电极和所述第二电极之间;有源层,所述有源层贯穿于所述第一绝缘层,且所述有源层与所述第一电极和所述第二电极电连接。
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