发明公开
- 专利标题: 一种阵列结构光学元件的面形误差测量方法
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申请号: CN202210451951.5申请日: 2022-04-27
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公开(公告)号: CN114858090A公开(公告)日: 2022-08-05
- 发明人: 李世杰 , 李兆 , 黄岳田 , 杨陈 , 梁海锋 , 蔡长龙 , 刘卫国
- 申请人: 西安工业大学
- 申请人地址: 陕西省西安市未央区学府中路2号
- 专利权人: 西安工业大学
- 当前专利权人: 西安工业大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市未央区学府中路2号
- 代理机构: 西安新思维专利商标事务所有限公司
- 代理商 黄秦芳
- 主分类号: G01B11/24
- IPC分类号: G01B11/24 ; G06F30/20
摘要:
本发明涉及光学测量技术领域,具体涉及一种阵列结构光学元件的面形误差测量方法。用于解决阵列结构光学元件面形的测量和评价问题。本发明采用方法步骤为:1)利用三维表面形貌检测装置对阵列结构光学元件进行检测,获得阵列结构光学元件表面形貌点云数据;2)将测量得到的阵列结构光学元件表面形貌点云数据通过六维自由度的平移旋转,使之与理论设计形状最佳匹配;3)采用最邻近插值算法,使匹配后的测量数据与理论数据的横向坐标完全匹配,然后对纵向坐标进行点对点相减,使之与理论设计形状最佳匹配,即可获得该被测阵列光学元件的面形误差。
公开/授权文献
- CN114858090B 一种阵列结构光学元件的面形误差测量方法 公开/授权日:2023-10-03