- 专利标题: 一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法
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申请号: CN202110335653.5申请日: 2021-03-29
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公开(公告)号: CN112980020B公开(公告)日: 2022-05-10
- 发明人: 刘丽 , 许耀元 , 黄玉东 , 龙军 , 钟正祥
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 主分类号: C08J5/18
- IPC分类号: C08J5/18 ; C08L83/08 ; C08K3/30 ; C08K3/16 ; C08K3/28
摘要:
一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法,属于POSS基材料合成技术领域。本发明解决了目前同时兼具热致变色和紫外屏蔽性能材料较少,且POSS应用范围固定的问题,所述方法为:将POSS溶解在水中;将铜盐和铬盐加入到POSS水溶液中,室温搅拌3h;20‑40℃搅拌1~24h,20‑80℃挥发溶剂,得到兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料。本发明首次合成了兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料,POSS基膜材料在80℃,由绿色变成亮黄色,变色明显,且膜材料的在200‑400nm处几乎没有紫外透过,紫外透过率几乎为0%,可用作紫外屏蔽材料。本发明室温合成,绿色环保的方法,将POSS同时应用到变色和紫外屏蔽领域。
公开/授权文献
- CN112980020A 一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法 公开/授权日:2021-06-18