一种X射线曝光装置

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专利标题： 一种X射线曝光装置
申请号： CN202110084626.5

申请日： 2021-01-21
公开(公告)号： CN112859539B

公开(公告)日： 2022-11-11
发明人: 李以贵 , 范若欣 , 赖丽燕 , 王欢 , 张成功
申请人： 上海应用技术大学
申请人地址： 上海市奉贤区海泉路100号
专利权人： 上海应用技术大学
当前专利权人： 上海应用技术大学
当前专利权人地址： 上海市奉贤区海泉路100号
代理机构： 上海科盛知识产权代理有限公司
代理商 杨元焱
主分类号： G03F7/20
IPC分类号： G03F7/20

摘要：

本发明涉及一种X射线曝光装置，包括套筒(1)和与套筒(1)连接的移动工作台(2)，所述的套筒(1)内设置有掩模版(3)和光刻胶基板(4)，套筒(1)上设有入光口(11)，X射线通过入光口(11)进入套筒(1)内。与现有技术相比，本发明不仅可以有效保护了光刻掩模版，而且此装置可以有效提高光刻的效率以及达到高精度的光刻效果，做到批量生产。

公开/授权文献

CN112859539A 一种X射线曝光装置公开/授权日：2021-05-28

信息查询

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）