发明授权
- 专利标题: 对准测量系统
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申请号: CN201880037959.9申请日: 2018-05-15
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公开(公告)号: CN110730930B公开(公告)日: 2024-05-31
- 发明人: S·M·维特 , A·安东琴赛奇 , 张浩 , S·爱德华 , P·C·M·普兰肯 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , S·R·胡伊斯曼 , I·D·塞蒂贾 , D·F·弗莱斯
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 国际申请: PCT/EP2018/062557 2018.05.15
- 国际公布: WO2018/224251 EN 2018.12.13
- 进入国家日期: 2019-12-06
- 主分类号: G03F9/00
- IPC分类号: G03F9/00
摘要:
公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法,所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后,利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分,以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率:(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
公开/授权文献
- CN110730930A 对准测量系统 公开/授权日:2020-01-24