Invention Grant
- Patent Title: 用于图案保真度控制的方法与设备
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Application No.: CN201780079785.8Application Date: 2017-11-28
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Publication No.: CN110088689BPublication Date: 2022-05-13
- Inventor: T·哈桑 , V·K·贾因 , 斯蒂芬·亨斯克 , B·拉方丹
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Priority: 62/438,665 20161223 US
- International Application: PCT/EP2017/080704 2017.11.28
- International Announcement: WO2018/114246 EN 2018.06.28
- Date entered country: 2019-06-21
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; G03F9/00

Abstract:
一种确定形貌的方法,该方法包括:获得第一聚焦值,所述第一聚焦值从对未经图案化的衬底的图案化建模的计算光刻模型导出或从未经图案化的衬底上的图案化层的测量导出;获得第二聚焦值,所述第二聚焦值从具有形貌的衬底的测量导出;和根据第一聚焦值和第二聚焦值确定所述形貌的值。
Public/Granted literature
- CN110088689A 用于图案保真度控制的方法与设备 Public/Granted day:2019-08-02
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IPC分类: