发明授权
摘要：
本公开提供了具有沟槽型器件隔离膜的半导体器件。一种半导体器件包括具有半导体层的基板。沟槽形成在半导体层内。填充绝缘膜设置在沟槽内。插入衬层设置在填充绝缘膜内。插入衬层与半导体层间隔开并沿着沟槽的底表面延伸。
公开/授权文献
- CN108231774A 具有沟槽型器件隔离膜的半导体器件 公开/授权日：2018-06-29
