发明公开
CN106486464A 半导体器件及其制造方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor device and manufacturing method thereof
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申请号: CN201610603053.1申请日: 2016-07-28
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公开(公告)号: CN106486464A公开(公告)日: 2017-03-08
- 发明人: 张守仁 , 吕俊麟 , 吴凯强 , 杨青峰 , 陈颉彦 , 王垂堂 , 王彦评 , 陈宪伟 , 林韦廷
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 14/839,047 2015.08.28 US
- 主分类号: H01L23/552
- IPC分类号: H01L23/552 ; H01L23/538 ; H01L21/768
摘要:
本发明的实施例提供了一种包括半导体管芯的半导体器件。介电材料围绕半导体管芯以形成集成半导体封装件。存在耦合至集成半导体封装件并且配置为用于该半导体封装件的接地端子的接触件。该半导体器件还具有基本封闭集成半导体封装件的EMI(电磁干扰)屏蔽罩,其中,该EMI屏蔽罩通过设置在集成半导体封装件中的路径耦合于该接触件。本发明的实施例还提供了制造半导体器件的方法。
IPC分类: