一种图形化导电薄膜的制备方法，首先在衬底上采用点胶工艺形成预定图形的聚合物掩模，然后对该衬底进行氧等离子或是紫外光照射处理以提高亲水性，再通过溶液工艺在附有所述聚合物掩模的衬底上制备导电薄膜，最后将该聚合物掩模从所述衬底上剥离，从而得到图形化的导电薄膜。本发明中的聚合物掩模图形可由自动化点胶设备中软件的自由设计，所得到的导电薄膜可满足溶液工艺生产的电子器件小批量、多样性的需求，使电子器件的生产更为灵活；所形成的掩模图形方法简单，并能够兼容导电薄膜的溶液工艺，降低了导电薄膜图形化的工艺复杂程度；在图形化过程中，所需的图形化导电薄膜表面没有其他材料覆盖，减少了清洗覆盖材料的步骤，避免了清洗时对导电薄膜的损伤。