发明授权
- 专利标题: 包括具有裙部区域的栅极结构的半导体器件
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申请号: CN201610023864.4申请日: 2016-01-14
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公开(公告)号: CN105895698B公开(公告)日: 2020-12-04
- 发明人: 刘庭均 , 严命允 , 朴永俊 , 李廷骁 , 河智龙 , 黃俊善
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 张帆; 崔卿虎
- 优先权: 10-2015-0006772 2015.01.14 KR
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/423
摘要:
本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。该半导体器件包括:有源鳍,其从衬底向上突出,并且在第一方向上延伸;以及栅极结构,其在以与有源鳍交叉的第二方向上延伸,其中栅极结构的与有源鳍接触的下部的第一宽度大于栅极结构的与有源鳍间隔开的下部的第二宽度。
公开/授权文献
- CN105895698A 包括具有裙部区域的栅极结构的半导体器件 公开/授权日:2016-08-24
IPC分类: