- 专利标题: 具有新型结构的高压(HV)器件端接及其制备方法
- 专利标题(英): A Termination of high voltage (HV) devices with new configurations and manufacture methods thereof
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申请号: CN201210244919.6申请日: 2012-07-16
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公开(公告)号: CN102891169A公开(公告)日: 2013-01-23
- 发明人: 李亦衡 , 马督儿·博德 , 丁永平 , 金钟五 , 安荷·叭剌
- 申请人: 万国半导体股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475号
- 专利权人: 万国半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 万国半导体国际有限合伙公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475号
- 代理机构: 上海信好专利代理事务所
- 代理商 张静洁; 徐雯琼
- 优先权: 13/135,982 2011.07.19 US
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/78
摘要:
本发明为具有新型结构的高压(HV)器件端接及其制备方法,公开了一种设置在半导体衬底中的半导体功率器件,含有一个形成在轻掺杂区上的重掺杂区,并且具有一个有源器件元区和一个边缘终接区。边缘终接区包括多个终接沟槽,形成在重掺杂区中,终接沟槽内衬电介质层,并且用导电材料填充。边缘终接还包括多个掩埋保护环,作为掺杂区,在半导体衬底的轻掺杂区中,紧靠终接沟槽。
公开/授权文献
- CN102891169B 具有新型结构的高压(HV)器件端接及其制备方法 公开/授权日:2015-04-08
IPC分类: