Patent search ap:("ZEISS JENA VEB CARL") AND inv:"EBERHARD HAHN" Page 1

1.

发明授权
Very fine beam electron gun 失效
Title translation: 非常精细的射束电子枪

公开(公告)号：US3141993A

公开(公告)日：1964-07-21

申请号：US209560

申请日：1960-01-07

Applicant: ZEISS JENA VEB CARL

Inventor： EBERHARD HAHN

IPC: H01J35/14 , H01J37/063

CPC classification number: H01J37/063 , H01J35/14

2.

发明授权
Radiation source for reducing specimen contamination in electron microscopes 失效
Title translation: 用于减少电子显微镜中样品污染的辐射源

公开(公告)号：US3418465A

公开(公告)日：1968-12-24

申请号：US48232265

申请日：1965-08-17

Applicant: ZEISS JENA VEB CARL

Inventor： EBERHARD HAHN , WOLFGANG HOCH

IPC: H01J37/02 , H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/02 , H01J2237/022 , H01J2237/2001 , H01J2237/2065

3.

发明授权
Intensity measuring and/or recording devices for corpuscular radiation apparatus, particularly electron microscopes 失效
Title translation: 用于红外辐射装置的强度测量和/或记录装置，特别是电子显微镜

公开(公告)号：US3134899A

公开(公告)日：1964-05-26

申请号：US15438561

申请日：1961-11-13

Applicant: ZEISS JENA VEB CARL

Inventor： ERNST GUYENOT , EBERHARD HAHN

IPC: G01T1/29 , H01J37/22

CPC classification number: H01J37/224 , G01T1/29

4.

发明授权
Secondary electron multipliers 失效
Title translation: 二次电子倍增器

公开(公告)号：US2945144A

公开(公告)日：1960-07-12

申请号：US74810158

申请日：1958-07-11

Applicant: ZEISS JENA VEB CARL

Inventor： LOTHAR SCHMIDT , EBERHARD HAHN

IPC: H01J21/20 , H01J43/04

CPC classification number: H01J43/04 , H01J21/20 , H01J2893/003

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