公开(公告)号：US09580681B2

公开(公告)日：2017-02-28

申请号：US14634190

申请日：2015-02-27

申请人： Sungkyunkwan University Foundation for Corporate Collaboration

发明人： Dong Geun Jung ,  Chang Rok Choi ,  Kyung Seop Kim

IPC分类号： C08F2/46 ,  C12N5/00 ,  B05D1/00 ,  B05D1/32

CPC分类号： C12N5/0068 ,  B01J2219/00509 ,  B01J2219/00527 ,  B01J2219/00605 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00614 ,  B01J2219/00619 ,  B01J2219/00621 ,  B01J2219/00635 ,  B01J2219/00637 ,  B01J2219/00743 ,  B01L3/5088 ,  B05D1/32 ,  B05D1/62 ,  C12M25/00 ,  C12N2533/12 ,  C12N2533/30 ,  C12N2535/10 ,  C12N2537/00 ,  C12N2539/00

摘要： A method of manufacturing a patterned substrate for culturing cells. The method includes the steps of: (1) preparing a substrate, (2) forming a first plasma polymer layer by integrating a first precursor material on the substrate using a plasma, wherein the first plasma layer inhibits cell adsorption, and wherein the first precursor material is a siloxane-based compound having a siloxane functional group with the Si—O—Si linkage, (3) placing a shadow mask having a predetermined pattern on the first plasma polymer layer thus formed, and (4) forming a second patterned plasma polymer layer by integrating a second precursor material using a plasma, wherein the second patterned plasma layer permits culturing of cells, whereby the patterned substrate is obtained.

摘要翻译： 一种制造用于培养细胞的图案化底物的方法。 该方法包括以下步骤：（1）制备衬底，（2）通过使用等离子体将基板上的第一前体材料整合形成第一等离子体聚合物层，其中第一等离子体层抑制细胞吸附，其中第一前体 材料是具有Si-O-Si键的硅氧烷官能团的硅氧烷基化合物，（3）在如此形成的第一等离子聚合物层上放置具有预定图案的荫罩，和（4）形成第二图案化等离子体 通过使用等离子体集成第二前体材料，其中第二图案化等离子体层允许细胞培养，由此获得图案化的基底。

公开(公告)号：US20150232806A1

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：US14634190

申请日：2015-02-27

申请人： Sungkyunkwan University Foundation for Corporate Collaboration

发明人： Dong Geun Jung ,  Chang Rok Choi ,  Kyung Seop Kim

IPC分类号： C12N5/00 ,  B05D1/32 ,  B05D1/00

CPC分类号： C12N5/0068 ,  B01J2219/00509 ,  B01J2219/00527 ,  B01J2219/00605 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00614 ,  B01J2219/00619 ,  B01J2219/00621 ,  B01J2219/00635 ,  B01J2219/00637 ,  B01J2219/00743 ,  B01L3/5088 ,  B05D1/32 ,  B05D1/62 ,  C12M25/00 ,  C12N2533/12 ,  C12N2533/30 ,  C12N2535/10 ,  C12N2537/00 ,  C12N2539/00

摘要： The present invention relates to a method of manufacturing a patterned substrate for culturing cells, comprising the steps of: (1) preparing a substrate; (2) forming a first plasma polymer layer by integrating a first precursor material using a plasma on the substrate; (3) placing a shadow mask having a predetermined pattern on the first plasma polymer layer; and (4) forming a second patterned plasma polymer layer by integrating a second precursor material using a plasma.

摘要翻译： 本发明涉及一种制造用于培养细胞的图案化衬底的方法，包括以下步骤：（1）制备衬底; （2）通过使用等离子体在基板上积分第一前体材料来形成第一等离子体聚合物层; （3）将具有预定图案的荫罩放置在第一等离子体聚合物层上; 和（4）通过使用等离子体整合第二前体材料来形成第二图案化等离子体聚合物层。