-
1.发明申请COLORED NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION, COLORED PATTERN COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE COLORED PATTERN 审中-公开有色负离子组合物，包含它们的着色图案和用于生产彩色图案的方法公开(公告)号：US20090185059A1
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：US12302773
申请日：2007-05-25
申请人： Seong Hyeon Kim , Seung No Lee , Sang Tae Kim
发明人： Seong Hyeon Kim , Seung No Lee , Sang Tae Kim
IPC分类号： H04N5/335 , G03F7/004 , G03F1/00 , G03F7/20 , G02F1/1335
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/105
摘要： The present invention relates to a colored negative photoresist composition comprising a coloring agent (A), an alkali soluble binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E), wherein the alkali soluble binder polymer (B) is a polymer comprising the monomer represented by the following Formula 1 and a monomer having a carboxyl group. The colored negative photoresist composition of the present invention improves adhesion to a silicone wafer, in particular, an SiN wafer, to prevent a separation or tear in the lining, and to form a rectangular pattern, thereby being able to be effectively used in a complementary metal oxide semiconductor.
摘要翻译： 本发明涉及着色剂（A），碱溶性粘合剂聚合物（B），光聚合性化合物（C），光聚合引发剂（D）和溶剂（E）的着色负性光致抗蚀剂组合物，其中， 碱溶性粘合剂聚合物（B）是包含由下式1表示的单体和具有羧基的单体的聚合物。 本发明的着色负型光致抗蚀剂组合物提高了与硅晶片，特别是SiN晶片的粘附性，以防止衬里中的分离或撕裂，并形成矩形图案，从而能够有效地用于互补 金属氧化物半导体。
-
2.发明申请Colored Photosensitive Resin Composition for Preparation of Color Filter of Solid-State Image Sensing Device Using 300 NM or Less Ultrashort Wave Exposure Equipment, Color Filter Using Same, and Solid-State Image Sensing Device Containing Same 有权使用300纳米或以下的超短波暴露设备，使用相同的滤色器的固态图像感测装置的彩色滤色片的彩色感光性树脂组合物和含有相同的固态图像感测装置公开(公告)号：US20120099214A1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：US13381289
申请日：2010-07-01
申请人： Sang Haeng Lee , Seung No Lee , Jeung Hoon On , Ji Min Chun
发明人： Sang Haeng Lee , Seung No Lee , Jeung Hoon On , Ji Min Chun
CPC分类号： G02B5/223 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/031
摘要： Disclosed is a colored photosensitive resin composition for a color filter of a solid state imaging device using an ultra-short wavelength exposing device of 300 nm or less, a color filter and a solid state imaging device including the same. The colored photosensitive resin composition can fabricate a color filter having a micro-patterned colored pattern. The color filter can be advantageously applied to a solid state imaging device.
摘要翻译： 公开了使用300nm以下的超短波长曝光装置的固体成像装置的滤色器用彩色感光性树脂组合物，滤色器以及包含该彩色感光性树脂组合物的固态成像装置。 着色感光性树脂组合物可以制造具有微图案着色图案的滤色器。 滤色器可以有利地应用于固态成像装置。
-
3.发明授权Colored photosensitive resin composition for preparation of color filter of solid-state image sensing device using 300 nm or less ultrashort wave exposure equipment, color filter using same, and solid-state image sensing device containing same 有权使用300nm以下的超短波曝光装置的固体摄像装置的滤色片的制备用彩色感光性树脂组合物，使用该曝光设备的滤色器以及包含该彩色滤光片的固体摄像装置公开(公告)号：US08902522B2
公开(公告)日：2014-12-02
申请号：US13381289
申请日：2010-07-01
申请人： Sang Haeng Lee , Seung No Lee , Jeung Hoon On , Ji Min Chun
发明人： Sang Haeng Lee , Seung No Lee , Jeung Hoon On , Ji Min Chun
CPC分类号： G02B5/223 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/031
摘要： Disclosed is a colored photosensitive resin composition for a color filter of a solid state imaging device using an ultra-short wavelength exposing device of 300 nm or less, a color filter and a solid state imaging device including the same. The colored photosensitive resin composition can fabricate a color filter having a micro-patterned colored pattern. The color filter can be advantageously applied to a solid state imaging device.
摘要翻译： 公开了使用300nm以下的超短波长曝光装置的固体成像装置的滤色器用彩色感光性树脂组合物，滤色器以及包含该彩色感光性树脂组合物的固态成像装置。 着色感光性树脂组合物可以制造具有微图案着色图案的滤色器。 滤色器可以有利地应用于固态成像装置。
-
-
搜索结果
3 条记录 (耗时 0.024 秒)
