公开(公告)号：US20140170855A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：US14236136

申请日：2012-08-10

申请人： NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

发明人： Makoto Nakajima ,  Daisuke Sakuma ,  Yuta Kanno ,  Takahiro Kishioka

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/311

CPC分类号： H01L21/0274 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31133

摘要： A composition for forming a resist underlayer film for lithography, including: as a silane, a hydrolyzable organosilane, a hydrolysate of the hydrolyzable organosilane, or a hydrolysis-condensation product of the hydrolyzable organosilane, wherein the hydrolyzable organosilane is a compound of Formula (1): [(R1)aSi(R2)(3-a)]b(R3)  Formula (1) [in Formula (1), R3 is an organic group having a sulfonyl group and a light-absorbing group and is bonded to a Si atom through a Si—C bond; R1 is an alkyl, aryl, aralkyl, halogenated alkyl, halogenated aryl, halogenated aralkyl, alkenyl, an organic group having an epoxy, acryloyl, methacryloyl, mercapto, alkoxyaryl, acyloxyaryl, isocyanurate, hydroxy, cyclic amino, or a cyano group, or a combination of any of these groups and is bonded to a Si atom through a Si—C bond; R2 is an alkoxy group, an acyloxy group, or a halogen group; a is an integer of 0 to 2; and b is an integer of 1 to 3].

摘要翻译： 一种用于形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，包括：作为硅烷，可水解的有机硅烷，可水解的有机硅烷的水解产物或可水解的有机硅烷的水解缩合产物，其中可水解的有机硅烷是式（1 ）：[（R1）aSi（R2）（3-a）] b（R3）式（1）[式（1）中，R3是具有磺酰基和光吸收基团的有机基团， 通过Si-C键的Si原子; R1是烷基，芳基，芳烷基，卤代烷基，卤代芳基，卤代芳烷基，烯基，具有环氧基，丙烯酰基，甲基丙烯酰基，巯基，烷氧基芳基，酰氧基芳基，异氰脲酸酯，羟基，环状氨基或氰基的有机基团， 这些基团中的任一个的组合，并且通过Si-C键与Si原子结合; R2是烷氧基，酰氧基或卤素基; a为0〜2的整数; b为1〜3的整数]。

公开(公告)号：US10724028B2

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：US15523157

申请日：2015-10-30

申请人： NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

发明人： Makiko Umezaki ,  Takahiro Kishioka ,  Taito Nishino ,  Ayako Aihara ,  Shunsuke Iwamoto ,  Daisuke Sakuma

IPC分类号： C12N11/08 ,  C07K14/705 ,  C07K17/08 ,  C12M1/00 ,  C12N1/00 ,  D01F1/10 ,  D01F6/00

摘要： The invention provides a ligand-bonded fiber in which a ligand having affinity for a cell membrane receptor is immobilized on a fiber precursor, and a cell culture substrate capable of repeating ex vivo amplification of a cell expressing a cell membrane receptor by using the ligand-bonded fiber.

公开(公告)号：US09290623B2

公开(公告)日：2016-03-22

申请号：US14654254

申请日：2013-12-17

申请人： NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

发明人： Yuta Kanno ,  Daisuke Sakuma ,  Kenji Takase ,  Makoto Nakajima ,  Shuhei Shigaki

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G77/18 ,  C07F7/18 ,  H01L21/308 ,  H01L21/311 ,  G03F7/075 ,  C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  C08G77/28 ,  G03F7/26

CPC分类号： C08G77/18 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  C08G77/28 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31144

摘要： A resist underlayer film that can be used as a hardmask. A resist underlayer film forming composition for lithography, includes: as a silane, a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof, wherein the hydrolyzable silane includes a hydrolyzable silane of Formula (1) or a hydrolyzable silane containing a combination of a hydrolyzable silane of Formula (1) with a hydrolyzable silane of Formula (2) in a content of less than 50% by mole in all silanes;Formula (1): R1aR2bSi(R3)4-(a+b) wherein R1 is an organic group containing Formula (1-1), Formula (1-2), or Formula (1-3): a is 1 and b is an integer of 0 to 2, where a+b is an integer of 1 to 3; Formula (2): R4aR5bSi(R6)4-(a+b) wherein, R4 is an organic group containing Formula (2-1), Formula (2-2), or Formula (2-3): a is 1 and b is an integer of 0 to 2, where a+b is an integer of 1 to 3.

摘要翻译： 可用作硬掩模的抗蚀剂下层膜。 用于光刻的抗蚀剂下层膜形成组合物包括：作为硅烷，可水解硅烷，其水解产物或其水解缩合产物，其中所述可水解硅烷包括式（1）的可水解硅烷或含有 式（1）的可水解硅烷与式（2）的可水解硅烷在所有硅烷中的含量小于50摩尔％的组合; 式（1）：R1aR2bSi（R3）4-（a + b）其中R1是含有式（1-1），式（1-2）或式（1-3）的有机基团：a是1和b 是0〜2的整数，a + b为1〜3的整数。 式（2）：R4aR5bSi（R6）4-（a + b）其中，R4是含有式（2-1），式（2-2）或式（2-3）的有机基团：a是1和 b为0〜2的整数，a + b为1〜3的整数。