公开(公告)号：US20140196664A1

公开(公告)日：2014-07-17

申请号：US14149318

申请日：2014-01-07

申请人： AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

发明人： Andrew David Johnson ,  Rajiv Krishan Agarwal ,  Heui-Bok Ahn ,  William Jack Casteel, JR. ,  Eugene Joseph Karwacki, JR. ,  John Francis Lehmann ,  David Charles Winchester

IPC分类号： C23C16/30 ,  H01L21/02 ,  C23C16/44

CPC分类号： H01L21/0262 ,  B01D53/002 ,  B01D53/68 ,  B01D2257/553 ,  B01D2258/0216 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4412

摘要： Condensable materials, such as but not limited to tungsten fluoride (WF6), can be used deposit films in a chemical vapor deposition (CVD) process. Described herein are methods to collect and reuse the condensable materials that are unreacted in the production process rather than treat these materials as waste. In one embodiment, when a condensable material, such as gaseous WF6, is not supplied to the CVD reactor, it is redirected to a recovery cabinet for capture.

摘要翻译： 可以在化学气相沉积（CVD）工艺中使用可冷凝材料，例如但不限于氟化钨（WF 6），沉积膜。 这里描述的是收集和再利用在生产过程中未反应的可冷凝材料的方法，而不是将这些材料作为废物处理。 在一个实施方案中，当诸如气态WF6的可冷凝材料未被供应到CVD反应器时，其被重定向到用于捕获的回收箱。