公开(公告)号：US20130017474A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13180523

申请日：2011-07-11

申请人： Yi-Chih Chiang ,  Yuan-Chi Pai ,  Sho-Shen Lee ,  Yi-Ting Chen ,  Tuan-Yen Yu

发明人： Yi-Chih Chiang ,  Yuan-Chi Pai ,  Sho-Shen Lee ,  Yi-Ting Chen ,  Tuan-Yen Yu

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of forming assist feature patterns includes providing an original layout pattern having at least a first region defined therein, the first region having a first light transmission rate larger than 0%; performing a search step to the original layout pattern to define at least a second region having a second light transmission rate equal to 0% in the original layout pattern; forming a plurality of assist features in the second region to increase the second light transmission rate to larger than 0%; and outputting the original layout pattern and the assist features to a reticle blank.

摘要翻译： 形成辅助特征图案的方法包括提供具有至少限定在其中的第一区域的原始布局图案，所述第一区域具有大于0％的第一光透射率; 对原始布局图案执行搜索步骤以限定在原始布局图案中具有等于0％的第二光传输速率的至少第二区域; 在所述第二区域中形成多个辅助特征以将所述第二光透射率增加到大于0％; 并将原始布局图案和辅助特征输出到掩模版坯料。

公开(公告)号：US08524423B2

公开(公告)日：2013-09-03

申请号：US13180523

申请日：2011-07-11

申请人： Yi-Chih Chiang ,  Yuan-Chi Pai ,  Sho-Shen Lee ,  Yi-Ting Chen ,  Tuan-Yen Yu

发明人： Yi-Chih Chiang ,  Yuan-Chi Pai ,  Sho-Shen Lee ,  Yi-Ting Chen ,  Tuan-Yen Yu

IPC分类号： G03F1/36

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of forming assist feature patterns includes providing an original layout pattern having at least a first region defined therein, the first region having a first light transmission rate larger than 0%; performing a search step to the original layout pattern to define at least a second region having a second light transmission rate equal to 0% in the original layout pattern; forming a plurality of assist features in the second region to increase the second light transmission rate to larger than 0%; and outputting the original layout pattern and the assist features to a reticle blank.

摘要翻译： 形成辅助特征图案的方法包括提供具有至少限定在其中的第一区域的原始布局图案，所述第一区域具有大于0％的第一光透射率; 对原始布局图案执行搜索步骤以限定在原始布局图案中具有等于0％的第二光传输速率的至少第二区域; 在所述第二区域中形成多个辅助特征以将所述第二光透射率增加到大于0％; 并将原始布局图案和辅助特征输出到掩模版坯料。