公开(公告)号：US07888302B2

公开(公告)日：2011-02-15

申请号：US11313495

申请日：2005-12-19

申请人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

发明人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/042 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/24 ,  C11D3/26 ,  C11D3/28 ,  C11D7/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3281 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

摘要： A composition and method comprising same for selectively removing residues such as, for example, ashed photoresist and/or processing residues are disclosed herein. In one aspect, there is provided a composition for removing residue wherein the composition has a pH ranging from about 2 to about 9 comprising: a buffer solution comprising an organic acid and a conjugate base of the organic acid in a molar ratio of acid to base ranging from 10:1 to 1:10; a fluoride, and water, provided that the composition is substantially free of an added organic solvent. In another aspect, the composition may further comprise a corrosion inhibitor and/or a surfactant.

摘要翻译： 本文公开了包含其的用于选择性去除残留物例如灰化光致抗蚀剂和/或加工残余物的组合物和方法。 在一个方面，提供了一种用于除去残余物的组合物，其中组合物的pH为约2至约9，包括：包含有机酸和有机酸的共轭碱的缓冲溶液，其酸与碱的摩尔比 范围从10：1到1:10; 氟化物和水，条件是组合物基本上不含加入的有机溶剂。 在另一方面，组合物还可以包含腐蚀抑制剂和/或表面活性剂。

公开(公告)号：US07534753B2

公开(公告)日：2009-05-19

申请号：US11330815

申请日：2006-01-12

申请人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

发明人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/046 ,  C11D3/245 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/349 ,  C11D7/10 ,  C11D7/28 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02071

摘要： A residue cleaning composition includes: (a) water; (b) a fluoride; (c) a pH buffer system including an organic acid and a base. The organic acid can be an aminoalkylsulfonic acid and/or an aminoalkylcarboxylic acid. The base can be an amine and/or a quaternary alkylammonium hydroxide. The composition is substantially free of an added organic solvent and has a pH ranging from about 5 to about 12. A method of removing residue from a substrate includes contacting the residue with the cleaning composition. A method for defining a pattern includes etching the pattern through a photoresist into a substrate, heating the patterned substrate to a temperature sufficient to ash the photoresist and provide a residue, and removing the residue by contacting the residue with the cleaning composition.

摘要翻译： 残渣清洗组合物包括：（a）水; （b）氟化物; （c）包含有机酸和碱的pH缓冲体系。 有机酸可以是氨基烷基磺酸和/或氨基烷基羧酸。 碱可以是胺和/或季烷基氢氧化铵。 该组合物基本上不含添加的有机溶剂，并且具有约5至约12的pH。从底物中除去残余物的方法包括使残余物与清洁组合物接触。 用于限定图案的方法包括将图案通过光致抗蚀剂蚀刻到基底中，将图案化基底加热到足以使光致抗蚀剂灰化并提供残余物的温度，并通过使残余物与清洁组合物接触来除去残余物。

公开(公告)号：US07682458B2

公开(公告)日：2010-03-23

申请号：US11050562

申请日：2005-02-03

申请人： Roberto John Rovito ,  Aiping Wu

发明人： Roberto John Rovito ,  Aiping Wu

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D7/3209 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3281

摘要： A composition and method comprising same for selectively removing residues such as, for example, ashed photoresist and/or processing residues are disclosed herein. In one aspect, there is provided a composition for removing residue wherein the composition has a pH ranging from about 2 to about 9 comprising: a buffer solution comprising an organic acid and a conjugate base of the organic acid in a molar ratio of acid to base ranging from 10:1 to 1:10; a fluoride, and water, provided that the composition is substantially free of an added organic solvent. In another aspect, the composition may further comprise a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 本文公开了一种组合物和方法，其组合物和方法包括用于选择性去除残留物，例如灰化光致抗蚀剂和/或加工残余物。 在一个方面，提供了一种用于除去残余物的组合物，其中组合物的pH为约2至约9，包括：包含有机酸和有机酸的共轭碱的缓冲溶液，其酸与碱的摩尔比 范围从10：1到1:10; 氟化物和水，条件是组合物基本上不含加入的有机溶剂。 另一方面，组合物还可包含腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US06821352B2

公开(公告)日：2004-11-23

申请号：US10723737

申请日：2003-11-26

申请人： Roberto John Rovito ,  David Barry Rennie ,  Dana L. Durham

发明人： Roberto John Rovito ,  David Barry Rennie ,  Dana L. Durham

IPC分类号： C23G102

CPC分类号： H01L21/02063 ,  C09K13/00 ,  H01L21/02071

摘要： A composition for removing etching residue and a method using same are disclosed herein. In one aspect, there is provided a method for removing etching residue from a substrate comprising: contacting the substrate with a composition comprising water, an organic dicarboxylic acid, a buffering agent, a fluorine source, and optionally a water miscible organic solvent.

摘要翻译： 本文公开了一种用于除去蚀刻残余物的组合物及其使用方法。 在一个方面，提供一种从基材上去除蚀刻残留物的方法，包括：使基材与包含水，有机二羧酸，缓冲剂，氟源和任选的水混溶性有机溶剂的组合物接触。

公开(公告)号：US08772214B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US11250250

申请日：2005-10-14

申请人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

发明人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

IPC分类号： C11D1/62 ,  C11D11/00 ,  C11D3/24

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D1/62 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/245 ,  C11D7/08 ,  C11D7/3209 ,  C23G1/18 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02057

摘要： A composition and method for removing residues such as, without limitation, post etched and/or post ashed photoresist, plasma etching, ashing, and mixtures thereof from a substrate is described herein. In one aspect, there is provided a method for removing residues from a substrate comprising: contacting the substrate with a composition comprising: water; a quaternary ammonium hydroxide compound; a fluoride containing compound; and optionally a corrosion inhibitor wherein the composition is free of an added organic solvent and wherein the composition has a pH greater than 9.

摘要翻译： 本文描述了用于从基板去除残留物（例如但不限于后蚀刻和/或后灰化光刻胶，等离子体蚀刻，灰化及其混合物）的组合物和方法。 在一个方面，提供了从基材中除去残余物的方法，包括：使基材与包含水的组合物接触; 氢氧化季铵化合物; 含氟化合物; 和任选的腐蚀抑制剂，其中组合物不含加入的有机溶剂，并且其中组合物的pH大于9。

公开(公告)号：US07879782B2

公开(公告)日：2011-02-01

申请号：US11249207

申请日：2005-10-13

申请人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

发明人： Aiping Wu ,  Roberto John Rovito

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/0073 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/34 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02071

摘要： An aqueous-based composition and method comprising same for removing residues such as without limitation post-ashed and/or post-etched photoresist from a substrate is described herein. In one aspect, there is provided a composition for removing residues comprising: water; at least one selected from a hydroxylamine, a hydroxylamine salt compound, and mixtures thereof; and a corrosion inhibitor wherein the composition is substantially free of an added organic solvent and provided that the corrosion inhibitor does not contain a water soluble organic acid.

摘要翻译： 本文描述了一种基于水性的组合物和包含其的方法，其用于从衬底去除残留物，例如但不限于后处理和/或蚀刻后的光致抗蚀剂。 一方面，提供一种用于除去残留物的组合物，包括：水; 选自羟胺，羟胺盐化合物及其混合物中的至少一种; 和腐蚀抑制剂，其中所述组合物基本上不含加入的有机溶剂，并且所述腐蚀抑制剂不含水溶性有机酸。

公开(公告)号：US06677286B1

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：US10191060

申请日：2002-07-10

申请人： Roberto John Rovito ,  David Barry Rennie ,  Dana L. Durham

发明人： Roberto John Rovito ,  David Barry Rennie ,  Dana L. Durham

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： H01L21/02063 ,  C09K13/00 ,  H01L21/02071

摘要： Compositions containing water, an organic dicarboxylic acid, a buffering agent and fluorine source and optionally a water miscible organic solvent are capable of removing etching residue.

摘要翻译： 含有水，有机二羧酸，缓冲剂和氟源以及任选的水混溶性有机溶剂的组合物能够除去蚀刻残留物。