公开(公告)号：US20050208435A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US10708702

申请日：2004-03-19

申请人： Irene Chen ,  Jyh-Huei Lay ,  Tien-Yu Chou ,  Yih-Far Chen ,  Yuan-Hung Wang ,  Jo-Wen Wu ,  Kuo-Hsiung Yen ,  Chin-Chen Yang ,  Chuan-Lun Hsu ,  Wei-Chih Ma ,  Hung-Lung Chuang

发明人： Irene Chen ,  Jyh-Huei Lay ,  Tien-Yu Chou ,  Yih-Far Chen ,  Yuan-Hung Wang ,  Jo-Wen Wu ,  Kuo-Hsiung Yen ,  Chin-Chen Yang ,  Chuan-Lun Hsu ,  Wei-Chih Ma ,  Hung-Lung Chuang

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/0017

摘要： First, a substrate is provided and a photoresist layer is coated thereon. Then, a film having a pattern is used as a mask to perform an exposing and developing process for patterning the photoresist layer. Following that, LIGA technology is employed to form a thin film having a pattern corresponding to the pattern of the film.

摘要翻译： 首先，提供基板并且在其上涂覆光致抗蚀剂层。 然后，将具有图案的膜用作掩模，以进行用于图案化光致抗蚀剂层的曝光和显影处理。 接下来，使用LIGA技术来形成具有与膜图案对应的图案的薄膜。