公开(公告)号：US20100151381A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12636546

申请日：2009-12-11

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi Noda ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Kinsho

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi Noda ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L31/02 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  C09D133/16 ,  C08L2666/02

摘要： A composition comprising (A) a fluorinated polymer having k=0.01-0.4 and n=1.4-2.1 and (B) an aromatic ring-bearing polymer having k=0.3-1.2 is used to form an antireflective coating. The ARC-forming composition can be deposited by the same process as prior art ARCs. The resulting ARC is effective in preventing reflection of exposure light in photolithography and has an acceptable dry etching rate.

摘要翻译： 包含（A）具有k = 0.01-0.4和n = 1.4-2.1的氟化聚合物和（B）具有k = 0.3-1.2的含芳环的聚合物的组合物用于形成抗反射涂层。 ARC形成组合物可以通过与现有技术ARC相同的方法沉积。 所得到的ARC有效地防止曝光光在光刻中的反射并且具有可接受的干蚀刻速率。

公开(公告)号：US20090202943A1

公开(公告)日：2009-08-13

申请号：US12370652

申请日：2009-02-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08F228/02 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A positive resist composition comprises a polymer comprising recurring units having a sulfonium salt incorporated therein as a base resin which becomes soluble in alkaline developer under the action of acid. The polymer generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含含有其中掺入其中的锍盐作为基础树脂的重复单元的聚合物，其在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂。 聚合物在暴露于高能量辐射时产生强烈的磺酸，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。

公开(公告)号：US20080008962A1

公开(公告)日：2008-01-10

申请号：US11822444

申请日：2007-07-05

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana ,  Masaki Ohashi

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： C08G63/20 ,  G03C1/73 ,  G03C5/38

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C67/11 ,  C07C69/54 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/46 ,  C07C2603/68 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  C08F222/06 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

摘要： Novel polymerizable ester compounds having formulae (1) to (4) undergo no acid-induced decomposition by β-elimination wherein A1 is a polymerizable functional group having a carbon-carbon double bond, R1 is H or —C—(R5)3, R2 and R3 are alkyl, R4 is H or alkyl, R5 is a monovalent hydrocarbon group, X is alkylene, Y is methylene, ethylene or isopropylidene, Z is alkylene, and n=1 or 2. Resist compositions comprising polymers derived from the ester compounds have excellent sensitivity and resolution and lend themselves to micropatterning lithography.

摘要翻译： 具有式（1）至（4）的新型可聚合酯化合物不经由β-消除而发生酸诱导的分解，其中A 1是具有碳 - 碳双键的可聚合官能团， 1是H或-C-（R 5）3，R 2和R 3， 是烷基，R 4是H或烷基，R 5是一价烃基，X是亚烷基，Y是亚甲基，亚乙基或异亚丙基，Z是亚烷基，n是 = 1或2.包含衍生自酯化合物的聚合物的抗蚀剂组合物具有优异的灵敏度和分辨率，并且适用于微图案光刻。

公开(公告)号：US08791288B2

公开(公告)日：2014-07-29

申请号：US12787004

申请日：2010-05-25

申请人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： C07C69/54 ,  C08F22/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/50 ,  C07C2603/94 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R2 is H or monovalent hydrocarbon, R3 and R4 are H or monovalent hydrocarbon, or R3 and R4, taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

摘要翻译： 螺环结构的酸不稳定酯单体具有式（1）其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷，环己烷或降冰片烷环的二价基团，R 2是H或一价烃，R 3和 R 4为H或一价烃，或者R 3和R 4一起代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2.由酸不稳定酯单体获得的聚合物具有如此高的反应性 酸催化的消除反应，聚合物可用于配制具有高分辨率的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20100304295A1

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：US12787004

申请日：2010-05-25

申请人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C69/533 ,  C08F220/00 ,  C08F232/08 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/50 ,  C07C2603/94 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R2 is H or monovalent hydrocarbon, R3 and R4 are H or monovalent hydrocarbon, or R3 and R4, taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

摘要翻译： 螺环结构的酸不稳定酯单体具有式（1）其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷，环己烷或降冰片烷环的二价基团，R 2是H或一价烃，R 3和 R 4为H或一价烃，或者R 3和R 4一起代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2.由酸不稳定酯单体获得的聚合物具有如此高的反应性 酸催化的消除反应，聚合物可用于配制具有高分辨率的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07687222B2

公开(公告)日：2010-03-30

申请号：US11822444

申请日：2007-07-05

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana ,  Masaki Ohashi

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  C08F20/10

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C67/11 ,  C07C69/54 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/46 ,  C07C2603/68 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  C08F222/06 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

摘要： Novel polymerizable ester compounds having formulae (1) to (4) undergo no acid-induced decomposition by β-elimination wherein A1 is a polymerizable functional group having a carbon-carbon double bond, R1 is H or —C—(R5)3, R2 and R3 are alkyl, R4 is H or alkyl, R5 is a monovalent hydrocarbon group, X is alkylene, Y is methylene, ethylene or isopropylidene, Z is alkylene, and n=1 or 2. Resist compositions comprising polymers derived from the ester compounds have excellent sensitivity and resolution and lend themselves to micropatterning lithography.

摘要翻译： 具有式（1）〜（4）的新型聚合性酯化合物，其中A1是具有碳 - 碳双键的可聚合官能团，R1是H或-C-（R5）3），不会发生酸分解 ，R2和R3是烷基，R4是H或烷基，R5是一价烃基，X是亚烷基，Y是亚甲基，亚乙基或异亚丙基，Z是亚烷基，n = 1或2.抗蚀剂组合物包含衍生自 酯化合物具有优异的灵敏度和分辨率，并适用于微图案光刻。

公开(公告)号：US20060093960A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US11258894

申请日：2005-10-27

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07D307/20 ,  C07D309/10 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： Cyclic structure-bearing fluorinated monomers having formula (1) wherein Z is a divalent organic group containing a polymerizable unsaturated group are useful to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions which are fully transparent to radiation having a wavelength of up to 300 nm and have improved development properties.

公开(公告)号：US20090297979A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12453665

申请日：2009-05-18

申请人： Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C69/767 ,  C07C69/52 ,  C08F18/02 ,  C08F24/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/67 ,  C07C69/76 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： The present invention provides; a polymer suitable as a base resin for a positive resist composition, in particular a chemically amplified positive resist composition, having a higher resolution, a larger exposure allowance, a smaller sparse-dense size difference, a better process applicability, a better pattern configuration after exposure, and in addition, a further excellent etching resistance, than a conventional positive resist; a positive resist composition using the same; a patterning process; and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this.The present invention was accomplished by a polymer whose hydrogen atom of at least a carboxyl group is substituted by an acid labile group represented by the following general formula (2), a positive resist composition using the same, a patterning process, and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this.

摘要翻译： 本发明提供： 适合作为正性抗蚀剂组合物的基础树脂的聚合物，特别是化学放大正性抗蚀剂组合物，具有更高的分辨率，更大的曝光容限，更小的稀疏密度尺寸差异，更好的工艺适用性，更好的图案配置 曝光，此外，比传统的正性抗蚀剂具有更好的耐蚀刻性; 使用其的正性抗蚀剂组合物; 图案化过程; 和新型聚合性化合物，得到这样的聚合物。 本发明是由至少具有羧基的氢原子被下述通式（2）表示的酸不稳定基团取代的聚合物，使用其的正性抗蚀剂组合物，图案化工艺和新型可聚合的 化合物以获得这样的聚合物。

公开(公告)号：US20080102407A1

公开(公告)日：2008-05-01

申请号：US11976564

申请日：2007-10-25

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A sulfonium salt having a polymerizable anion generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so that it facilitates effective scission of acid labile groups in chemically amplified resist compositions. It is useful as a monomer from which a base resin for use in radiation-sensitive resist compositions is derived.

摘要翻译： 具有可聚合阴离子的锍盐在暴露于高能量辐射下产生强烈的磺酸，从而有助于在化学增强的抗蚀剂组合物中有效地分裂酸不稳定基团。 作为衍生用于辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂的单体是有用的。

公开(公告)号：US20060009602A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US11175346

申请日：2005-07-07

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C08F118/02 ,  C07C69/62 ,  C07C69/52

CPC分类号： C08F114/18 ,  C07C69/653 ,  C07C2601/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： Polymerizable fluorinated ester compounds having formula (1) or (2) are novel wherein R1 is H, methyl or trifluoromethyl, R2 is a divalent hydrocarbon group, R3 is H or a monovalent hydrocarbon group, or R2 and R3, taken together, may form a ring, R4 is H, OH or a monovalent hydrocarbon group, and R5 is an acid labile group. They are most useful as monomers to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions.

摘要翻译： 具有式（1）或（2）的可聚合氟化酯化合物是新的，其中R 1是H，甲基或三氟甲基，R 2是二价烃基，R SUP > 3是H或一价烃基，或R 2和R 3一起可以形成环，R 4， SUP>是H，OH或一价烃基，R 5是酸不稳定基团。 它们作为制备用于制造辐射敏感抗蚀剂组合物的聚合物的单体最有用。