公开(公告)号：US20150147836A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：US14332215

申请日：2014-07-15

Applicant: Samsung Display Co., Ltd. ,  ENF Technology Co., Ltd

Inventor： In-Bae Kim ,  Jong-Hyun Choung ,  Young Min Moon ,  Hong Sick Park ,  Hyeon Jeong Sang ,  Jae Woo Jeong ,  Min Hee Kim ,  Young Jin Park ,  Sang-Moon Yun ,  Sang Dai Lee ,  Hyun Cheol Jeong

IPC: H01L21/02 ,  H01L27/15

CPC classification number: H01L27/153 ,  C03C23/0075 ,  C11D1/66 ,  C11D3/044 ,  C11D3/046 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D11/0041 ,  H01L21/02052 ,  H01L27/1262

Abstract: The disclosure provides a cleaning agent composition for a flat panel display device, including: polyaminocarboxylic acid; alkali base; a nonionic surfactant; and a fluoride component. The cleaning agent composition for the flat panel display device can effectively remove metal oxides and organic contaminants on the substrate without impairing a transparent conductive layer.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于平板显示装置的清洁剂组合物，包括：聚氨基羧酸; 碱碱 非离子表面活性剂; 和氟化物成分。 用于平板显示装置的清洁剂组合物可以有效地去除衬底上的金属氧化物和有机污染物而不损害透明导电层。

公开(公告)号：US09023735B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US13728348

申请日：2012-12-27

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Bong-Kyun Kim ,  Hong Sick Park ,  Wang Woo Lee ,  Young Min Moon ,  Seung Ho Yoon ,  Young Joo Choi ,  Sang-Woo Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Dae-Woo Lee ,  Sam-Young Cho

IPC: H01L21/461 ,  H01L21/465 ,  H01L29/66 ,  H01L21/3213 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L21/465 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C23F1/30 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

Abstract: An etchant composition includes ammonium persulfate (((NH4)2)S2O8), an azole-based compound, a water-soluble amine compound, a sulfonic acid-containing compound, a nitrate-containing compound, a phosphate-containing compound, a chloride-containing compound, and residual water.

Abstract translation: 蚀刻剂组合物包括过硫酸铵（（（NH4）2）S2O8），唑类化合物，水溶性胺化合物，含磺酸化合物，含硝酸盐化合物，含磷酸盐化合物，氯化物 含有化合物和残留水。

公开(公告)号：US20140038348A1

公开(公告)日：2014-02-06

申请号：US13728348

申请日：2012-12-27

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Bong-Kyun Kim ,  Hong Sick Park ,  Wang Woo Lee ,  Young Min Moon ,  Seung Ho Yoon ,  Young Joo Choi ,  Sang-Woo Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Dae-Woo Lee ,  Sam-Young Cho

IPC: H01L21/465 ,  H01L29/66

CPC classification number: H01L21/465 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C23F1/30 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

Abstract: An etchant composition includes ammonium persulfate (((NH4)2)S2O8), an azole-based compound, a water-soluble amine compound, a sulfonic acid-containing compound, a nitrate-containing compound, a phosphate-containing compound, a chloride-containing compound, and residual water.

Abstract translation: 蚀刻剂组合物包括过硫酸铵（（（NH4）2）S2O8），唑类化合物，水溶性胺化合物，含磺酸化合物，含硝酸盐化合物，含磷酸盐化合物，氯化物 含有化合物和残留水。