公开(公告)号：US20120258401A1

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：US13441032

申请日：2012-04-06

申请人： Koji ICHIKAWA ,  Takahiro YASUE ,  Yuichi MUKAI

发明人： Koji ICHIKAWA ,  Takahiro YASUE ,  Yuichi MUKAI

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/092 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition contains (A) a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, (B) an acid generator represented by the formula (II), and (D) a compound represented by the formula (I), wherein R1 and R2, m and n, R3 and R4, X1, R5 and Z1+ are defined in the specification.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物含有（A）在碱性水溶液中不溶或难溶的树脂，但是通过酸的作用可溶于碱性水溶液，（B）由式（II）表示的酸发生剂和（ D）由式（I）表示的化合物，其中R1和R2，m和n，R3和R4，X1，R5和Z1 +在说明书中定义。

公开(公告)号：US20110171575A1

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：US12983594

申请日：2011-01-03

申请人： Tatsuro MASUYAMA ,  Yuichi MUKAI ,  Masahiko SHIMADA

发明人： Tatsuro MASUYAMA ,  Yuichi MUKAI ,  Masahiko SHIMADA

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： The present invention provides a photoresist composition comprising: at least one selected from the group consisting of a monomer represented by the formula (I): wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, W1 represents a C3-C20 divalent saturated cyclic hydrocarbon group, A1 represents a single bond or *—O—CO—W1— wherein * represents a binding position to W1═N— and W1 represents a C1-C10 divalent saturated hydrocarbon group, a polymer consisting of a structural unit derived from the monomer represented by the formula (I) and a polymer consisting of a structural unit derived from the monomer represented by the formula (I) and a structural unit derived from a monomer represented by the formula (II): wherein R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, A2 represents a single bond or *—O—CO—(CH2)n— wherein * represents a binding position to R4-, n represents an integer of 1 to 7 and R4 represents a C3-C20 saturated cyclic hydrocarbon group, a resin having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, and an acid generator.

摘要翻译： 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包括：选自由式（I）表示的单体中的至少一种：其中R1表示氢原子或甲基，W1表示C3-C20二价饱和环状烃基 ，A1表示单键或* -O-CO-W1-，其中*表示与W1 = N-的结合位置，W1表示C1-C10二价饱和烃基，由衍生自所表示的单体的结构单元组成的聚合物 由式（I）表示的结构单元和由式（I）表示的单体衍生的结构单元和由式（II）表示的单体衍生的结构单元构成的聚合物：其中，R3表示氢原子或甲基 基团，A2表示单键或* -O-CO-（CH2）n-，其中*表示与R4-的结合位置，n表示1〜7的整数，R4表示C3-C20饱和环状烃基， 树脂啊 酸不稳定的基团，并且在碱性水溶液中不溶或难溶，但是通过酸和酸产生剂可溶于碱水溶液。

公开(公告)号：US08835095B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13405068

申请日：2012-02-24

申请人： Koji Ichikawa ,  Hiromu Sakamoto ,  Yuichi Mukai

发明人： Koji Ichikawa ,  Hiromu Sakamoto ,  Yuichi Mukai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/121

摘要： A resist composition contains (A1) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (A2) a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, (B) an acid generator, and (D) at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the formula (II1) and a compound represented by the formula (II2), wherein R1, A1, R2, R6, X1, X2, R3, R4 and R5 are defined in the specification.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物含有（A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）不溶于碱性水溶液或难溶于碱性水溶液的树脂，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液 ，（B）酸产生剂，和（D）选自由式（II1）表示的化合物和式（II2）表示的化合物中的至少一种化合物，其中R1，A1，R2，R6 X1，X2，R3，R4和R5在本说明书中定义。

公开(公告)号：US08778594B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13551980

申请日：2012-07-18

申请人： Koji Ichikawa ,  Hiromu Sakamoto ,  Yuichi Mukai

发明人： Koji Ichikawa ,  Hiromu Sakamoto ,  Yuichi Mukai

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition having a resin having a structural unit represented by the formula (I), a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I), an acid generator, and a compound represented by the formula (II), wherein R1, A1, A13, A14, X12, R23, R24, R25, R26, X21 and X22 are defined in the specification.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其具有由式（I）表示的结构单元的树脂，树脂在碱性水溶液中不溶或难溶，但通过酸而不溶于碱性水溶液，不包括结构单元 由式（I）表示的酸产生剂和由式（II）表示的化合物，其中R1，A1，A13，A14，X12，R23，R24，R25，R26，X21和X22在本说明书中定义 。

公开(公告)号：US20130022915A1

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：US13551980

申请日：2012-07-18

申请人： Koji ICHIKAWA ,  Hiromu SAKAMOTO ,  Yuichi MUKAI

发明人： Koji ICHIKAWA ,  Hiromu SAKAMOTO ,  Yuichi MUKAI

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition having a resin having a structural unit represented by the formula (I), a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I), an acid generator, and a compound represented by the formula (II), wherein R1, A1, A13, A14, X12, R23, R24, R25, R26, X21 and X22 are defined in the specification.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其具有由式（I）表示的结构单元的树脂，树脂在碱性水溶液中不溶或难溶，但通过酸而不溶于碱性水溶液，不包括结构单元 由式（I）表示的酸产生剂和由式（II）表示的化合物，其中R1，A1，A13，A14，X12，R23，R24，R25，R26，X21和X22在本说明书中定义 。

公开(公告)号：US20120219905A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13405068

申请日：2012-02-24

申请人： Koji ICHIKAWA ,  Hiromu SAKAMOTO ,  Yuichi MUKAI

发明人： Koji ICHIKAWA ,  Hiromu SAKAMOTO ,  Yuichi MUKAI

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/121

摘要： A resist composition contains (A1) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (A2) a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, (B) an acid generator, and (D) at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the formula (II1) and a compound represented by the formula (II2), wherein R1, A1, R2, R6, X1, X2, R3, R4 and R5 are defined in the specification.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物含有（A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）不溶于碱性水溶液或难溶于碱性水溶液的树脂，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液 ，（B）酸产生剂，和（D）选自由式（II1）表示的化合物和式（II2）表示的化合物中的至少一种化合物，其中R1，A1，R2，R6 X1，X2，R3，R4和R5在本说明书中定义。

公开(公告)号：US20120009519A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13175072

申请日：2011-07-01

申请人： Hyungjoo KIM ,  Akira KAMABUCHI ,  Yuichi MUKAI

发明人： Hyungjoo KIM ,  Akira KAMABUCHI ,  Yuichi MUKAI

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D275/03 ,  C07D277/34 ,  C07D277/68 ,  C07D275/06 ,  C08F28/06 ,  C07D279/06 ,  C07D279/12 ,  C07D337/16 ,  C07D337/04 ,  C07D513/04 ,  C07D513/14 ,  G03F7/004 ,  C07D279/02

CPC分类号： C07D291/02 ,  C07C317/30 ,  C07D275/02 ,  C07D275/04 ,  C07D275/06 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention provides a compound represented by the formula (I): wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group which may have one or more halogen atoms, A1 represents a divalent connecting group, X1 represents a C2-C36 heterocyclic group and one or more —CH2— in the C2-C36 heterocyclic group can be replaced by —CO— or —O—, R2 is independently in each occurrence a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C24 hydrocarbon group, a C1-C12 alkoxy group, a C2-C4 acyl group or a C2-C4 acyloxy group, and m represents an integer of 0 to 10.

摘要翻译： 本发明提供由式（I）表示的化合物：其中R1表示氢原子，卤素原子或可具有一个或多个卤素原子的C1-C6烷基，A1表示二价连接基团，X1表示 C2-C36杂环基和C2-C36杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-替代，R2在每次出现时独立地为卤素原子，羟基，C1-C24烃 基团，C 1 -C 12烷氧基，C 2 -C 4酰基或C 2 -C 4酰氧基，m表示0〜10的整数。

公开(公告)号：US20110053082A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12872817

申请日：2010-08-31

申请人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

发明人： Koji Ichikawa ,  Akira Kamabuchi ,  Yuichi Mukai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F26/06 ,  C08F20/28 ,  C08F28/06 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/60 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

摘要： A resin comprises a structural unit derived from a compound represented by the formula (I); wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group that optionally has one or more halogen atoms; X1 represents a C2 to C36 heterocyclic group, one or more hydrogen atoms contained in the heterocyclic group may be replaced by a halogen atom, a hydroxy group, a C1 to C24 hydrocarbon group, a C1 to C12 alkoxyl group, a C2 to C4 acyl group, or a C2 to C4 acyloxy group, and one or more —CH2— contained in the heterocyclic group may be replaced by —CO— or —O—.

摘要翻译： 树脂包含衍生自由式（I）表示的化合物的结构单元; 其中R1表示任选具有一个或多个卤素原子的氢原子，卤素原子或C1-C6烷基; X1表示C2〜C36杂环基，杂环基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1〜C24烃基，C1〜C12烷氧基，C2〜C4酰基 基团或C2〜C4酰氧基，杂环基中所含的一个或多个-CH 2可以被-CO-或-O-代替。