公开(公告)号：US08012921B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US11865795

申请日：2007-10-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20110052991A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12626300

申请日：2009-11-25

申请人： Seong-Bae Kim ,  Woo-Seong Kim ,  Ki-Sup Song ,  Ji-Jun Hong ,  Sung-Tae Ko ,  Yoon-Jeong Heo

发明人： Seong-Bae Kim ,  Woo-Seong Kim ,  Ki-Sup Song ,  Ji-Jun Hong ,  Sung-Tae Ko ,  Yoon-Jeong Heo

IPC分类号： H01M4/48 ,  H01M4/40 ,  H01M4/42 ,  H01M4/46 ,  H01M4/26

CPC分类号： H01M4/505 ,  C01G45/1228 ,  C01G45/1242 ,  C01G51/42 ,  C01G51/50 ,  C01G53/50 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/82 ,  C01P2006/40 ,  H01M4/364 ,  H01M4/366 ,  H01M4/525 ,  H01M4/62 ,  H01M4/624 ,  H01M4/625 ,  H01M4/626

摘要： Disclosed are a cathode active material for lithium secondary batteries, a method for preparing the same, and lithium secondary batteries comprising the same. The cathode active material for lithium secondary batteries comprises a lithium metal oxide secondary particle core formed by aggregation of a plurality of lithium metal oxide primary particles; a first shell formed by coating the surface of the secondary particle core with a plurality of barium titanate particles and a plurality of metal oxide particles; and a second shell formed by coating the surface of the first shell with a plurality of olivine-type lithium iron phosphate oxide particles and a plurality of conductive material particles. The cathode active material for lithium secondary batteries allows manufacture of lithium secondary batteries having excellent thermal stability, high-temperature durability and overcharge safety.

摘要翻译： 公开了一种用于锂二次电池的正极活性材料及其制备方法，以及包含该二次电池的锂二次电池。 用于锂二次电池的正极活性材料包括通过多个锂金属氧化物一次粒子的聚集而形成的锂金属氧化物二次粒子芯; 通过用多个钛酸钡颗粒和多个金属氧化物颗粒涂覆二次颗粒芯的表面而形成的第一壳; 以及通过用多个橄榄石型磷酸铁锂颗粒和多个导电材料颗粒涂覆第一壳体的表面而形成的第二壳体。 用于锂二次电池的正极活性材料允许制造具有优异的热稳定性，高温耐久性和过充电安全性的锂二次电池。

公开(公告)号：US08927153B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US12528133

申请日：2007-10-31

申请人： Seong-Bae Kim ,  Woo-Seong Kim ,  Ji-Jun Hong ,  Sung-Tae Koh ,  Yoon-Jeong Heo

发明人： Seong-Bae Kim ,  Woo-Seong Kim ,  Ji-Jun Hong ,  Sung-Tae Koh ,  Yoon-Jeong Heo

IPC分类号： H01M4/131 ,  H01M4/136 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/1397 ,  H01M4/525 ,  H01M4/58 ,  H01M10/0525 ,  H01M4/505 ,  H01M4/62 ,  H01M4/36

CPC分类号： H01M4/5825 ,  H01M4/364 ,  H01M4/366 ,  H01M4/505 ,  H01M4/525 ,  H01M4/62 ,  H01M10/0525 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

摘要： The present invention relates to a cathode active material for lithium secondary batteries with high safety, a method of preparing the same and lithium secondary batteries comprising the same. The cathode active material of the present invention comprises a lithium metal oxide secondary particle core portion formed by aggregation of lithium metal oxide primary particles; and a shell portion formed by coating the secondary particle core portion with an olivine-structured lithium iron phosphate oxide. The cathode active material of the present invention allows to manufacture lithium secondary batteries with improved safety, especially overcharge characteristics.

摘要翻译： 本发明涉及一种高安全性的锂二次电池用正极活性物质及其制备方法以及包含该二次电池的锂二次电池。 本发明的正极活性物质包含通过锂金属氧化物一次粒子的聚集而形成的锂金属氧化物二次粒子核心部分， 以及通过用橄榄石结构的磷酸铁锂氧化物涂覆二次粒子芯部而形成的壳部。 本发明的正极活性物质能够制造安全性提高的锂二次电池，特别是过充电特性。

公开(公告)号：US20110206829A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13101973

申请日：2011-05-05

申请人： Ji Sun LEE ,  Hong Sick PARK ,  Jong Hyun CHOUNG ,  Sun Young HONG ,  Bong Kyun KIM ,  Byeong Jin LEE ,  Byung Uk KIM ,  Jong Hyun JEONG ,  Suk Il YOON ,  Seong Bae KIM ,  Sung Gun SHIN ,  Soon Beom HUH ,  Se Hwan JUNG ,  Doo Young JANG

发明人： Ji Sun LEE ,  Hong Sick PARK ,  Jong Hyun CHOUNG ,  Sun Young HONG ,  Bong Kyun KIM ,  Byeong Jin LEE ,  Byung Uk KIM ,  Jong Hyun JEONG ,  Suk Il YOON ,  Seong Bae KIM ,  Sung Gun SHIN ,  Soon Beom HUH ,  Se Hwan JUNG ,  Doo Young JANG

IPC分类号： C23C16/52 ,  B05D5/12

CPC分类号： G03F7/425

摘要： The present invention provides a stripping composition and a stripping method capable of easily stripping a color resist or an organic insulating film formed on a substrate to reuse the substrate when defects are found during a process of forming the color filter or organic insulating film on the substrate. In one embodiment, the stripping composition includes about 0.5 to about 45 wt % of hydroxide compound, about 10 to about 89 wt % of alkyleneglycolalkylether compound, about 5 to about 45 wt % of alkanolamine compound, and about 0.01 to about 5 wt % of inorganic salt compound. Advantageously, the stripping process can be performed without damaging a thin film transistor of a bottom substrate while removing the color resist or organic insulating film.

摘要翻译： 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够在形成基板上的滤色器或有机绝缘膜的过程中发现缺陷时容易地剥离形成在基板上的着色抗蚀剂或有机绝缘膜，以重新使用基板 。 在一个实施方案中，汽提组合物包含约0.5至约45重量％的氢氧化物化合物，约10至约89重量％的亚烷基二醇烷基醚化合物，约5至约45重量％的烷醇胺化合物和约0.01至约5重量％的 无机盐化合物。 有利地，可以在不损坏底部基板的薄膜晶体管的同时进行剥离处理，同时移除彩色抗蚀剂或有机绝缘膜。

公开(公告)号：US20080032432A1

公开(公告)日：2008-02-07

申请号：US11873791

申请日：2007-10-17

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20060204896A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US11217400

申请日：2005-09-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： C11D9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper comprising about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US07091165B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10694951

申请日：2003-10-29

申请人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

发明人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

IPC分类号： C11D1/00

CPC分类号： C11D3/2068 ,  C11D1/22 ,  C11D7/263 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047

摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes: about 0.1% to about 10% by weight of an alkylbenzenesulfonic compound; about 10% to about 99% by weight of a glycolether compound; and about 0.5% to about 5% by weight of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 用于除去铜相容抗蚀剂的组合物包括：约0.1％至约10％重量的烷基苯磺酸化合物; 约10重量％至约99重量％的乙二醇醚化合物; 和约0.5重量％至约5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：USRE44360E1

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US12324414

申请日：2008-11-26

申请人： Seong Bae Kim

发明人： Seong Bae Kim

IPC分类号： A61H1/00

CPC分类号： A61H1/005 ,  A61H23/0218 ,  A61H2203/0406

摘要： A vibratory exercise apparatus capable of providing sufficient vertical movement force is provided that adopts a structure of a bobbin coil connected with a vibration plate employed in a magnetic gap of a magnetic circuit using a permanent magnet that can generate a strong magnetic force, thereby providing sufficient vertical movement force to the vibration plate for vibratory exercise.

摘要翻译： 提供一种能够提供足够的垂直移动力的振动锻炼装置，其采用与使用能够产生强磁力的永磁体在磁路的磁隙中使用的振动板连接的线圈架线圈的结构，从而提供足够的 垂直移动力到振动板进行振动运动。

公开(公告)号：US08163095B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US13101973

申请日：2011-05-05

申请人： Ji Sun Lee ,  Hong Sick Park ,  Jong Hyun Choung ,  Sun Young Hong ,  Bong Kyun Kim ,  Byeong Jin Lee ,  Byung Uk Kim ,  Jong Hyun Jeong ,  Suk II Yoon ,  Seong Bae Kim ,  Sung Gun Shin ,  Soon Beom Huh ,  Se Hwan Jung ,  Doo Young Jang

发明人： Ji Sun Lee ,  Hong Sick Park ,  Jong Hyun Choung ,  Sun Young Hong ,  Bong Kyun Kim ,  Byeong Jin Lee ,  Byung Uk Kim ,  Jong Hyun Jeong ,  Suk II Yoon ,  Seong Bae Kim ,  Sung Gun Shin ,  Soon Beom Huh ,  Se Hwan Jung ,  Doo Young Jang

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： G03F7/425

摘要： The present invention provides a stripping composition and a stripping method capable of easily stripping a color resist or an organic insulating film formed on a substrate to reuse the substrate when defects are found during a process of forming the color filter or organic insulating film on the substrate. In one embodiment, the stripping composition includes about 0.5 to about 45 wt % of hydroxide compound, about 10 to about 89 wt % of alkyleneglycolalkylether compound, about 5 to about 45 wt % of alkanolamine compound, and about 0.01 to about 5 wt % of inorganic salt compound. Advantageously, the stripping process can be performed without damaging a thin film transistor of a bottom substrate while removing the color resist or organic insulating film.

摘要翻译： 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够在形成基板上的滤色器或有机绝缘膜的过程中发现缺陷时容易地剥离形成在基板上的着色抗蚀剂或有机绝缘膜，以重新使用基板 。 在一个实施方案中，汽提组合物包含约0.5至约45重量％的氢氧化物化合物，约10至约89重量％的亚烷基二醇烷基醚化合物，约5至约45重量％的烷醇胺化合物和约0.01至约5重量％的 无机盐化合物。 有利地，可以在不损坏底部基板的薄膜晶体管的同时进行剥离处理，同时移除彩色抗蚀剂或有机绝缘膜。

公开(公告)号：US07968507B2

公开(公告)日：2011-06-28

申请号：US12214658

申请日：2008-06-20

申请人： Ji Sun Lee ,  Hong Sick Park ,  Jong Hyun Choung ,  Sun Young Hong ,  Bong Kyun Kim ,  Byeong Jin Lee ,  Byung Uk Kim ,  Jong Hyun Jeong ,  Suk Il Yoon ,  Seong Bae Kim ,  Sung Gun Shin ,  Soon Beom Huh ,  Se Hwan Jung ,  Doo Young Jang

发明人： Ji Sun Lee ,  Hong Sick Park ,  Jong Hyun Choung ,  Sun Young Hong ,  Bong Kyun Kim ,  Byeong Jin Lee ,  Byung Uk Kim ,  Jong Hyun Jeong ,  Suk Il Yoon ,  Seong Bae Kim ,  Sung Gun Shin ,  Soon Beom Huh ,  Se Hwan Jung ,  Doo Young Jang

IPC分类号： C11D7/06

CPC分类号： G03F7/425

摘要： The present invention provides a stripping composition and a stripping method capable of easily stripping a color resist or an organic insulating film formed on a substrate to reuse the substrate when defects are found during a process of forming the color filter or organic insulating film on the substrate. In one embodiment, the stripping composition includes about 0.5 to about 45 wt % of hydroxide compound, about 10 to about 89 wt % of alkyleneglycolalkylether compound, about 5 to about 45 wt % of alkanolamine compound, and about 0.01 to about 5 wt % of inorganic salt compound. Advantageously, the stripping process can be performed without damaging a thin film transistor of a bottom substrate while removing the color resist or organic insulating film.

摘要翻译： 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够在形成基板上的滤色器或有机绝缘膜的过程中发现缺陷时容易地剥离形成在基板上的着色抗蚀剂或有机绝缘膜，以重新使用基板 。 在一个实施方案中，汽提组合物包含约0.5至约45重量％的氢氧化物化合物，约10至约89重量％的亚烷基二醇烷基醚化合物，约5至约45重量％的烷醇胺化合物和约0.01至约5重量％的 无机盐化合物。 有利地，可以在不损坏底部基板的薄膜晶体管的同时进行剥离处理，同时移除彩色抗蚀剂或有机绝缘膜。