玻璃管元件及生产线
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113493306B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202110349308.7

    申请日:2021-03-31

    摘要: 本发明涉及一种玻璃管元件及生产线。该玻璃管元件包括至少一个呈空心圆柱形式的区段,其中该区段具有至少一个壳体,该壳体围成至少一个管腔,限定(A)在玻璃管元件的特定横截平面中壳体的外径的最小值与最大值的差值和(B)在玻璃管元件的特定横截平面中壳体的外径的最小值和最大值的平均值的第一比率,并且限定(C)特定距离与(D)1米的第二比率,该特定距离限定为所有最短距离中最大的;其中该第一比率和所述第二比率的乘积小于4×10‑6。通过限定玻璃管元件的几何参数各自的特定和依赖性并未他们中的一个或多个分配适当的边界,该玻璃管元件的质量得到了提高。

    一种防破损的玻璃制备工艺

    公开(公告)号:CN116621451A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310378132.7

    申请日:2023-04-11

    发明人: 苏钰龙

    摘要: 本发明公开了一种防破损的玻璃制备工艺,涉及玻璃制备技术领域,包括以下步骤:(1)、原料配比;(2)、玻璃熔制;(3)、冷却成型;(4)、退火加工;(5)、复合制备;(6)、镀膜加工。该防破损的玻璃制备工艺,在玻璃熔制的过程中,给料时缩小吐料口采用薄层加料的方式给料,料堆的厚度减小使得使得受力面积减小,增加澄清时间,气体在玻璃中的溶解度提高,有利于气泡就的减少或消除,在复合制备过程中,玻璃板之间通过玻璃粘结剂来加压加热复合由一层透明状有机玻纤层,还透明状有机玻纤层具有较高的韧性,防止玻璃出现爆裂的情况,能够提高玻璃的防破损效果,并且可以使得玻璃破损后也不会出现玻璃碎屑散落的现象。

    一种红外非线性硫系玻璃材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115124238A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202210548127.1

    申请日:2022-05-17

    发明人: 胡皓楠 周劲峰

    IPC分类号: C03C3/076

    摘要: 一种红外非线性硫系玻璃材料及其制备方法,属于非线性光学材料领域。化学组分为GexGa4S96‑x,摩尔百分比x的取值范围是22.5‑33.5。由熔融‑淬冷法制成,将高纯度原料单质按照玻璃组分配比混合,装入石英玻璃管管中抽真空熔融,紧接着将石英管放入退火炉中退火释放内部残留热应力,最终得到制备材料。本发明的硫系玻璃具有红外透射波段较宽,高透射率,良好的化学稳定性和热稳定性,较高的三阶非线性折射率和较低的非线性吸收系数,是良好的红外非线性材料。在硫系光纤和波导等非线性器件的制备中将会发挥较好的应用价值。

    光学玻璃
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112125511B

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202011040242.5

    申请日:2020-09-28

    摘要: 本发明提供一种光学玻璃,其组分以重量百分比表示,含有:SiO2:25~45%;ZrO2:2~15%;Nb2O5:35~60%;Li2O:1~10%;Na2O:2~15%;K2O:0~10%。本发明通过含有合适量的SiO2和碱金属氧化物等组分,使光学玻璃具有优异的抗析晶性能;通过含有Nb2O5、ZrO2等具有高折射率氧化物组分,得到具有高折射高色散的光学玻璃;通过合理的组分设计使光学玻璃具有较低的相对部分色散。

    通过等离子体蚀刻的高折射率玻璃的图案化

    公开(公告)号:CN110431118A

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:CN201880015722.0

    申请日:2018-01-04

    申请人: 奇跃公司

    摘要: 本文提供了用于在高折射率玻璃基板中形成例如用作波导的图案的等离子体蚀刻方法。该基板可以由具有大于或等于约1.65的折射率且具有小于约50wt%的SiO2的玻璃形成。等离子体蚀刻方法可以包括化学和物理蚀刻组分。在一些实施例中,等离子体蚀刻方法可以包括:在高折射率玻璃基板的至少一部分上形成图案化的掩模层,以及将掩模层和高折射率玻璃基板暴露于等离子体以从基板的暴露部分去除高折射率玻璃。随后从高折射率玻璃基板去除任何剩余的掩模层。玻璃的去除在高折射率玻璃基板中形成例如衍射光栅的期望的图案化结构。