等离子浸没加热系统以及管式等离子喷枪

    公开(公告)号:CN106658933A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201710150455.5

    申请日:2017-03-14

    Applicant: 徐林波

    Inventor: 徐林波

    CPC classification number: H05H1/34 H05H1/44

    Abstract: 一种等离子浸没加热系统以及管式等离子喷枪,其特征是:用一种等离子喷枪,将高温等离子气体以射流或鼓泡形式直接喷入金属或无机非金属熔体中,金属或无机非金属原料层浮在其熔体上,并不断熔化进入其熔体;从熔体中逸出的高温气体,进入浮在其熔体上的原料层换热后排出;其喷枪结构为,在一根空心管腔体内依次排列有一定数量的等离子喷头,其喷嘴与空心管壁上排列的喷气孔相匹配吻合,在空心管腔体内通有冷却流体,用于冷却保护空心管和等离子喷头;在空心管腔体内设有供气气管,为各个等离子喷头提供工作气体。等离子喷枪浸没于金属或无机非金属熔体中;管式等离子喷枪浸没在熔体中工作。

    一种具有温度调节功能的等离子体发生装置

    公开(公告)号:CN116419462A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202310411837.4

    申请日:2023-04-18

    Abstract: 本发明公开了一种具有温度调节功能的等离子体发生装置,包括柜体、工作台、移动机构、喷射机构、自动机械手、散热机构和等离子发生器,工作台置于柜体上,移动机构与工作台紧固连接,喷射机构与移动机构紧固连接,喷射机构与等离子发生器电连接,自动机械手置于工作台上,散热机构置于柜体内,等离子发生器与散热机构紧固连接,等离子发生器与柜体紧固连接,等离子发生器位于散热机构下方。

    一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置

    公开(公告)号:CN112888133A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202011631169.9

    申请日:2020-12-31

    Applicant: 广州大学

    Abstract: 本发明公开一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置,包括进气腔体、电动平移台和多个等离子体发生器;进气腔体的一侧设有进气通道,进气通道用以通入放电气体,进气腔体的底部设有多个出气孔;等离子体发生器通过连接器与出气孔连接;电动平移台位于等离子体发生器下方,待处理材料放置于电动平移台上,电动平移台用以带动待处理材料横向移动和纵向移动,同时调节进气腔体和待处理材料的竖直距离。可根据不同的放电需求随时更换放电结构,同时可根据不同的需求减少等离子体发生器的数量,能满足多种处理材料的要求,真正使大气压低温等离子体处理材料的灵活性得到了提高。

    一种规模化等离子发生器
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111629507A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010392635.6

    申请日:2020-05-11

    Applicant: 孔泽学

    Inventor: 孔泽学

    Abstract: 本发明公开了一种规模化等离子发生器,包括外壳,外壳内设置有等离子发生装置、风机,所述等离子发生装置包括若干个阳极互联罩,相邻两个阳极互联罩之间设置有一个阴极互联罩,相邻的阳极互联罩和阴极互联罩之间形成等离子发生通道,等离子发生通道内设置有若干个阳极电极阵和若干个阴极电极阵,阳极电极阵与阳极互联罩相连,阴极电极阵与阴极互联罩相连,阳极电极阵与阴极电极阵交错排列。本发明能够产生高浓度的等离子体,能够在较短时间内杀灭病毒和细菌,起到良好的杀菌消毒作用,有效地阻止了病毒和细菌的传播。

    轴向进给型等离子喷镀装置

    公开(公告)号:CN103492084B

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201280019605.4

    申请日:2012-06-07

    Inventor: 丰田建藏

    CPC classification number: B05B7/226 C23C4/134 H05H1/42 H05H1/44

    Abstract: 本发明中,使熔融的喷镀材料不会附着在等离子产生室内及电极以及等离子射流喷射孔,另外,热效率良好地熔融从喷镀材料喷射孔喷出的喷镀材料,提高成品率,进而,不会因喷镀材料的粒径、质量等的不同,使得在等离子火焰外周部反射或在等离子火焰穿过而飞散。本发明中,阴极电极(8)和阳极喷嘴(2)配设一对,在前述阳极喷嘴前面(3)设置3个以上的多个等离子射流喷出孔(4),且在被前述喷出孔(4)包围的中心设置喷镀材料喷出孔(5)。将喷镀材料从前述喷出孔(5)喷出,投入复合等离子弧(31)或复合等离子射流(32)的轴心。

    等离子体处理设备、其气体分配装置及工艺气体提供方法

    公开(公告)号:CN101489344B

    公开(公告)日:2011-07-06

    申请号:CN200810056178.2

    申请日:2008-01-14

    Inventor: 徐亚伟

    Abstract: 本发明公开了一种气体分配装置,用于等离子体处理设备,包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极的支撑板,以及固定连接于所述支撑板下方的喷头电极;所述喷头电极设有多个均匀分布的通气单元,所述通气单元包括至少两个轴向贯通所述喷头电极的通气孔;同一所述通气单元中各通气孔的气流喷出方向不同。由于每一通气单元中各通气孔的气流喷射方向均不相同,因此同一通气单元中各通气孔中流出的工艺气体容易相互扰动,进而形成紊流,工艺气体因此会迅速向所述通气孔之间的空间扩散。所以,工艺气体的均匀度可以得到显著地改善。本发明还公开了一种等离子体处理设备及其工艺气体提供方法。

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