公开(公告)号：CN116536113B

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202310555973.0

申请日：2023-05-17

Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司

Inventor： 刘小勇 ,  李丛香 ,  房龙翔 ,  叶鑫煌 ,  肖小江 ,  刘文生

IPC: C11D1/34 ,  C11D3/10 ,  C11D3/08 ,  C11D3/33 ,  C11D3/20 ,  C11D3/06 ,  C11D3/60 ,  C07F9/09

Abstract: 本发明公开了一种用于切割后新能源电池铝壳表面污染物清洗的组合物，属于新能源电池制造领域。按质量百分数之和为100%计，所述组合物包括5‑10%的阴离子长链脂肪酸磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂、3‑7%的分散剂、5‑15%的无机碱、5‑10%的螯合剂，余量为高纯水。本发明通过将阴离子长链脂肪酸磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂与无机碱、分散剂、螯合剂的混配，可以高效去除电池铝壳在冲压、切割过程中残留的拉伸油、铝粉等污染物，并且对壳体不腐蚀不氧化，其易清洗、不残留，解决了市面上电池铝壳清洗存在的腐蚀氧化及产品良率不高的问题。

公开(公告)号：CN118772960A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410983736.9

申请日：2024-07-22

Applicant: 河南逸祥卫生科技有限公司

Inventor： 杨自强 ,  田禾 ,  李小想 ,  周文迪 ,  李静 ,  刘祺 ,  杨露

IPC: C11D1/94 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D3/30 ,  C11D3/10 ,  C11D3/60 ,  C11D1/90 ,  C11D1/66 ,  C11D1/29 ,  C11D1/38 ,  C11D1/22 ,  C11D1/34

Abstract: 本发明提供一种去除重油污的组合物及制备方法，属于家居清洁护理领域，本发明包括阴离子表面活性剂、复合表面活性剂液、防腐杀菌剂、乙二醇以及纯水，使用BEROL 226与阴离子表面活性剂进行复配，然后再与阳离子化合物进行复配，得到配方液，使用pH调节剂调节配方液的pH值后得到组合物；所述阴离子表面活性剂为羧酸盐、磺酸盐、硫酸酯盐、磷酸酯盐、N‑酰基氨基羧酸盐类或烷基硫酸钠中的一种，所述阴离子表面活性剂的组分含量为0.05‑10%；所述BEROL 226的组分含量为0.05‑10%；所述阳离子化合物为季铵盐类抗抑菌剂，所述阳离子化合物的组分含量为0.05‑3.5%，本发明解决了阴阳离子在碱性环境下复配而不会发生中和反应，不降低阴阳离子表面活性剂的活性，且稳定无沉淀。

公开(公告)号：CN118480413A

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202410529306.X

申请日：2024-04-29

Applicant: 武汉鼎泽新材料技术有限公司 ,  湖北鼎龙控股股份有限公司

Inventor： 毕明航 ,  胡怀志 ,  王培浩 ,  刘子龙 ,  肖桂林

IPC: C11D1/83 ,  C11D1/78 ,  C11D1/34 ,  C11D3/20 ,  C11D3/36 ,  C11D3/34 ,  C11D3/26 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/60 ,  H01L21/306 ,  H01L21/302 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光后清洗组合物，包含：碱性pH调节剂，螯合剂，羟胺化合物，磷酸类化合物，腐蚀抑制剂，余量为水；所述磷酸类化合物为式(A)和式(B)所示化合物中的一种或两种与式(C)和式(D)所示化合物中的一种或两种的组合；所述清洗组合物的pH为9～12。本发明加入少量的磷酸类化合物，有效的降低了清洗液的表面张力，增强了清洗液在铜表面的润湿性，使清洗液对铜的清洁能力进一步得到了增强，同时增强了带负电的粒子与铜晶圆之间的静电排斥作用，使难以去除的磨料颗粒变得容易去除。

公开(公告)号：CN114450387B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202080067018.7

申请日：2020-09-15

Applicant: 小林制药株式会社 ,  第一工业制药株式会社

Inventor： 上田梓 ,  氏家彩奈 ,  堀江拓也

IPC: C11D1/29 ,  C11D1/34 ,  C11D1/37 ,  C11D17/08 ,  C11D3/10 ,  D06L1/12

Abstract: 抑制对衣物等纤维制品的损伤、且改善对血迹的清洗性。实施方式的纤维制品用清洗剂组合物包含由下述通式(1)所示的磷酸酯(A)和碱金属的碳酸盐(B)，浓度1质量％水溶液中的pH为9.5～11.5。式(1)中，R表示碳数8～18的脂肪族烃基或苯乙烯化苯基、AO表示碳数2～4的氧化烯基、n表示0～10、M表示氢原子、碱金属、铵或有机铵，m表示1或2。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118085975A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202211658316.0

申请日：2022-12-22

Applicant: 南亚塑胶工业股份有限公司

Inventor： 廖德超 ,  赵成礼 ,  王永昇

IPC: C11D11/00 ,  C11D1/34 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/43 ,  C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  H05K3/00

Abstract: 本发明公开一种去膜液，其包括一第一溶液以及一第二溶液。所述第一溶液含氢氧化钾溶液、氢氧化钠溶液及水。基于所述第一溶液的总重为100wt％，所述氢氧化钾溶液的含量是介于60wt％至80wt％之间，所述氢氧化钠溶液的含量是介于5wt％至20wt％之间，并且所述水的含量是介于10wt％至20wt％之间。所述第二溶液包含醇醚类溶剂、铜保护剂及水。基于所述第二溶液的总重为100wt％，所述醇醚类溶剂的含量是介于50wt％至70wt％，所述铜保护剂的含量是介于10wt％至20wt％之间，并且所述水的含量是介于10wt％至20wt％之间。

公开(公告)号：CN117448090A

公开(公告)日：2024-01-26

申请号：CN202310923732.7

申请日：2023-07-26

Applicant: 富士胶片电子材料美国有限公司

Inventor： 梁燕南 ,  胡斌 ,  张书维

IPC: C11D1/34 ,  H01L21/306 ,  C11D3/04 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/60 ,  C23G1/20

Abstract: 一种组合物，其包含：至少一种pH调节剂；至少一种螯合剂；至少一种阴离子表面活性剂；至少一种含氮杂环；至少一种烷基胺化合物；和水性溶剂，其中所述组合物的pH为约7至约14。

公开(公告)号：CN116891784A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310874697.4

申请日：2023-07-17

Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司

Inventor： 刘小勇 ,  邱小真 ,  房龙翔 ,  叶鑫煌 ,  肖小江 ,  刘文生 ,  吴远超

IPC: C11D1/34 ,  C11D3/43 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D3/60 ,  C11D3/37 ,  C07F9/09 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L33/00 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明公开了一种LED固体蜡清洗剂及其清洗工艺，该清洗剂是由有机溶剂、乳化剂、增溶剂、渗透剂及高纯水组成。本发明的清洗剂应用于LED衬底基材，具有去蜡效果好，解决了市面上水基型产品清洗不良、胶气污染及金属电极的腐蚀问题，对环境无污染。

公开(公告)号：CN116445227A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202310414165.2

申请日：2023-04-18

Applicant: 匠成环保新材料(烟台)有限公司

Inventor： 公孙康为 ,  马厚义 ,  赫威

IPC: C11D1/83 ,  C11D3/20 ,  C11D3/32 ,  C11D3/22 ,  C11D3/43 ,  C11D3/60 ,  C11D1/66 ,  C11D1/34 ,  C11D1/22 ,  C11D1/24

Abstract: 本发明公开了一种提高工业清洗活性剂耐碱性的增溶剂及其制备方法，属于清洗活性剂耐碱性研究技术领域。该增溶剂由羧酸化合物、苯磺酸盐、烷基糖苷0810、氢化蓖麻油、十二烷基二苯醚二磺酸钠、醇醚溶剂、N,N‑二甲基癸酰胺DMDA、磷酸酯活性剂、油醇聚氧乙烯醚1602、羧甲基纤维素和尿素复配而成；各组分相互协同作用，可以发生分子间作用力，协同提高工业清洗活性剂在高碱中的增溶作用。该增溶剂改性温度低，仅有50度即可无需高温加热，成本低廉，操作简单。

公开(公告)号：CN116083173A

公开(公告)日：2023-05-09

申请号：CN202310050491.X

申请日：2023-02-01

Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司

Inventor： 刘小勇 ,  吴远超 ,  房龙翔 ,  叶鑫煌 ,  肖小江 ,  刘文生 ,  李丛香 ,  江艺玲

IPC: C11D1/34 ,  C11D3/37 ,  C11D3/36 ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D3/60

Abstract: 本发明公开了一种用于蓝宝石衬底片抛光后的清洗组合物，按质量百分数之和为100%计，所述清洗组合物由以下质量百分数的原料制成：无机碱3‑15%、Gemini型聚醚磷酸盐表面活性剂1‑10%、渗透剂1‑5%、分散剂1‑8%，余量为水。本发明使用特定Gemini型聚醚磷酸盐表面活性剂的清洗组合物具有良好的除蜡、螯合、净洗、润湿、分散等作用，可以一次性对蓝宝石衬底片研磨抛光后残留的表面颗粒、蜡垢、灰尘等有机污染物进行有效去除，并且能解决业界存在的因“水合层”残留导致的难清洗问题，具有产品浓缩度高、清洗效果好、清洗良率高、使用寿命长、对环境友好等优点。

公开(公告)号：CN113621443B

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202111060555.1

申请日：2021-09-10

Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司

Inventor： 刘小勇 ,  李丛香 ,  邱小真 ,  房龙翔 ,  叶鑫煌 ,  肖小江 ,  刘文生 ,  黄晓莉 ,  张梦雪

IPC: C11D1/34 ,  C11D3/06 ,  C11D3/20 ,  C11D3/22 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C11D3/37 ,  C11D3/60 ,  C07F9/09

Abstract: 本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于半导体芯片固体蜡清洗的组合物，包括阴离子松香基磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂，高效渗透剂，乳化剂，螯合剂，有机助剂和高纯水。本发明通过阴离子松香基磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂与高效渗透剂和乳化剂混配，可以使固体蜡溶胀、破裂脱离芯片表面，并快速乳化溶解，解决了市面上溶剂型产品存在的环保和安全问题，且易清洗无残留。