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公开(公告)号：CN104425200B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201410369393.3
申请日：2014-07-30
申请人： 斯伊恩股份有限公司
发明人： 狩谷宏行
IPC分类号： H01J37/317 , G01R33/02
CPC分类号： H01J37/243 , G01R33/07 , G01R33/072 , H01J37/05 , H01J37/147 , H01J37/3171 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/152 , H01J2237/24514 , H01J2237/248 , H01J2237/3045
摘要： 本发明提供一种与磁场测定有关且有助于提高生产性的离子注入装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置(100)具备配设于离子源与处理室之间的能量分析电磁铁(24)。能量分析电磁铁(24)具备：霍尔元件(110)，根据偏转磁场生成测定输出；及NMR元件(112)，生成NMR输出。离子注入装置(100)的控制部(102)具备：磁场测定部(114)，根据偏转磁场与测定输出之间已知的对应关系测定偏转磁场；磁场决定部(118)，根据NMR输出决定偏转磁场；及霍尔元件校正部(120)，利用根据NMR输出决定的偏转磁场和与该偏转磁场对应的霍尔元件(110)的新的测定输出来更新已知的对应关系。
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公开(公告)号：CN101553897B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200780035716.3
申请日：2007-09-13
申请人： 艾克塞利斯科技公司
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/1471 , H01J37/04 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/0475 , H01J2237/055 , H01J2237/1501 , H01J2237/152 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/3045 , H01J2237/31703
摘要： 一种离子注入系统(410)的平行化部件(439)包括两个成角度的双极磁铁(439a、439b)，其彼此成镜像且用于弯曲横越其中的离子束(424)，以具有大致“s”形状。这种s弯曲用于从束中滤除杂质，同时所述双极平行化所述束以帮助在晶片(430)上有均匀的注入性能，例如注入角度。另外，在注入系统的末端处还包含减速级(457)，使得束的能量可在整个束线中均保持非常高，以减轻束扩散。
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公开(公告)号：CN101414125B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN200810166460.6
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号：CN101189696B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200680019884.9
申请日：2006-06-07
申请人： 瓦里安半导体设备公司
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/1477 , H01J37/3171 , H01J2237/1507 , H01J2237/3045 , H01J2237/30455 , H01J2237/30472 , H01J2237/31703 , H01L21/26586
摘要： 本发明揭示一种用于离子束角度扩散控制的技术。在一特定例示性实施例中，技术可实现为离子束角度扩散控制的方法。此方法可包括将一或多个离子束以两个或两个以上不同入射角导向一基板表面处，藉此使基板表面暴露于离子束入射角的一受控扩散中。
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公开(公告)号：CN101414536A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166463.X
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号：CN104425200A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410369393.3
申请日：2014-07-30
申请人： 斯伊恩股份有限公司
发明人： 狩谷宏行
IPC分类号： H01J37/317 , G01R33/02
CPC分类号： H01J37/243 , G01R33/07 , G01R33/072 , H01J37/05 , H01J37/147 , H01J37/3171 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/152 , H01J2237/24514 , H01J2237/248 , H01J2237/3045
摘要： 本发明提供一种与磁场测定有关且有助于提高生产性的离子注入装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置(100)具备配设于离子源与处理室之间的能量分析电磁铁(24)。能量分析电磁铁(24)具备：霍尔元件(110)，根据偏转磁场生成测定输出；及NMR元件(112)，生成NMR输出。离子注入装置(100)的控制部(102)具备：磁场测定部(114)，根据偏转磁场与测定输出之间已知的对应关系测定偏转磁场；磁场决定部(118)，根据NMR输出决定偏转磁场；及霍尔元件校正部(120)，利用根据NMR输出决定的偏转磁场和与该偏转磁场对应的霍尔元件(110)的新的测定输出来更新已知的对应关系。
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公开(公告)号：CN101414127A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166462.5
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号：CN101414125A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166460.6
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号：CN1708826A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200380102559.5
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号：CN1677528A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510054146.5
申请日：2005-03-09
申请人： 松下电器产业株式会社
CPC分类号： H01J37/3045 , G11B7/261 , G11B9/10 , G11B11/03 , H01J2237/3045
摘要： 一种电子束记录器包括：电子光学系统(102)，用于将电子束(114)照射在信息记录介质的母盘(109)上；以及屏蔽板(107)，用于屏蔽电子束(114)。将电子束照射量检测器(120)设置在屏蔽板(107)上，并沿母盘(109)上的信息记录方向(Y)，将其分为第一和第二电子束检测区(120a、120b)。差值检测器(125)计算照射在第一电子束检测部分(120a)上的第一电子束(114)剂量(a)与照射在第二电子束检测部分(120b)上的第二电子束(114)剂量(b)之间的差值(a－b)，从而根据所述差值(a－b)，检测电子束(114)在与信息记录方向(Y)实质上垂直的方向(X)上的位置。
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