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公开(公告)号:CN103576471B
公开(公告)日:2019-08-09
申请号:CN201310166001.9
申请日:2013-05-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: G03G5/0436 , G03G5/10 , G03G5/102 , G03G15/751
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体用导电性支持体、电子照相感光体、图像形成设备和处理盒。电子照相感光体用导电性支持体含有铝,其中所述导电性支持体具有32,000MPa~55,000MPa的杨氏模量。
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公开(公告)号:CN103576476A
公开(公告)日:2014-02-12
申请号:CN201310166797.8
申请日:2013-05-08
Applicant: 富士施乐株式会社
Inventor: 山本真也
CPC classification number: G03G5/0436 , G03G5/0539 , G03G5/0546 , G03G5/0592 , G03G5/0614 , G03G5/064 , G03G5/075 , G03G5/102 , G03G5/14791 , G03G15/75
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成装置。本发明的电子照相感光体包括圆筒状导电性基体和设置在所述导电性基体上的感光层,所述导电性基体的厚度为0.4mm~0.6mm且杨氏模量为20GPa~80GPa,其中,形成最外表面的层的弹性变形率为0.35%~0.47%。
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公开(公告)号:CN101551604B
公开(公告)日:2012-06-20
申请号:CN200910004897.4
申请日:2009-02-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G5/144 , G03G5/0436 , G03G5/0525 , G03G5/0564 , G03G5/0614 , G03G5/0696 , G03G5/14704
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体及使用该感光体的成像装置和处理盒。所述电子照相感光体包含导电性基体和依次设置于所述导电性基体上的感光层、中间层和表面层,所述中间层的厚度为2nm~70nm。所述感光层的折射率n1、所述中间层的折射率n2和所述表面层的折射率n3满足不等式n2>n3>n1。
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公开(公告)号:CN107203101A
公开(公告)日:2017-09-26
申请号:CN201610815920.8
申请日:2016-09-09
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/14704 , G03G5/0436 , G03G5/0507 , G03G5/087 , G03G15/75 , G03G21/18
Abstract: 本发明提供了一种电子照相感光体,包括:导电性基体、在所述导电性基体上的有机感光层和在所述有机感光层上的无机保护层,其中形成所述有机感光层的表面的层包含电荷传输材料、粘结剂树脂和二氧化硅颗粒;所述无机保护层包含第13族元素、氧原子和氢原子;所述第13族元素、所述氧原子和所述氢原子相对于构成所述无机保护层的所有元素的元素构成比率之和等于或大于90原子%;以及所述氧原子和所述第13族元素的元素组成比(氧原子/第13族元素)在1.0以上且小于1.5。所述电子照相感光体抑制了图像缺陷的发生以及图像模糊的发生。
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公开(公告)号:CN107111257A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580064968.3
申请日:2015-11-26
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor: 井田和孝
CPC classification number: G03G5/0605 , G03G5/0436 , G03G5/0503 , G03G5/0507 , G03G5/0607 , G03G5/0609 , G03G5/0696 , G03G5/08214 , G03G5/14704 , G03G5/14708 , G03G5/14713
Abstract: 本发明提供一种感光体的强曝光暴露后的电位变化得到抑制、成膜及耐磨耗性的机械特性提高的电子照相感光体、盒、图像形成装置。本发明涉及一种电子照相感光体,其特征在于,其在导电性基体上具有电荷产生层及膜厚为15μm以上且40μm以下的电荷传输层,该电荷传输层为最外层,该电荷传输层含有无机填料和下述通式(1)所示的烃化合物。
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公开(公告)号:CN101551604A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200910004897.4
申请日:2009-02-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G5/144 , G03G5/0436 , G03G5/0525 , G03G5/0564 , G03G5/0614 , G03G5/0696 , G03G5/14704
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体及使用该感光体的成像装置和处理盒。所述电子照相感光体包含导电性基体和依次设置于所述导电性基体上的感光层、中间层和表面层,所述中间层的厚度为2nm~70nm。所述感光层的折射率n1、所述中间层的折射率n2和所述表面层的折射率n3满足不等式n2>n3>n1。
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公开(公告)号:CN103576471A
公开(公告)日:2014-02-12
申请号:CN201310166001.9
申请日:2013-05-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: G03G5/0436 , G03G5/10 , G03G5/102 , G03G15/751
Abstract: 本发明涉及电子照相感光体用导电性支持体、电子照相感光体、图像形成设备和处理盒。电子照相感光体用导电性支持体含有铝,其中所述导电性支持体具有32,000MPa~55,000MPa的杨氏模量。
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公开(公告)号:CN1799008B
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200480015271.9
申请日:2004-11-17
Applicant: 京瓷美达株式会社
CPC classification number: G03G5/0637 , G03G5/0436 , G03G5/0557 , G03G5/0564 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0605 , G03G5/065 , G03G5/0651 , G03G5/0661
Abstract: 本发明的目的在于提供湿式显影用电子照相感光体以及使用它的湿式图像形成装置,所述湿式显影用电子照相感光体利用电子输送剂和粘结树脂的特定的物性指标,在可以稳定地制造的同时,具有优异的耐久性和耐溶剂性。为此,在导电性基体上具有至少含有电荷发生剂、电子输送剂、空穴输送剂、粘结树脂的感光层的湿式显影用电子照相感光体以及使用它的湿式图像形成装置中,使电子输送剂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.60或0.60以上的值,并且粘结树脂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.37或0.37以上的值;或者使电子输送剂的分子量为600或600以上的值,并且粘结树脂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.37或0.37以上的值。
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公开(公告)号:CN1799008A
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN200480015271.9
申请日:2004-11-17
Applicant: 京瓷美达株式会社
CPC classification number: G03G5/0637 , G03G5/0436 , G03G5/0557 , G03G5/0564 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0605 , G03G5/065 , G03G5/0651 , G03G5/0661
Abstract: 本发明的目的在于提供湿式显影用电子照相感光体以及使用它的湿式图像形成装置,所述湿式显影用电子照相感光体利用电子输送剂和粘结树脂的特定的物性指标,在可以稳定地制造的同时,具有优异的耐久性和耐溶剂性。为此,在导电性基体上具有至少含有电荷发生剂、电子输送剂、空穴输送剂、粘结树脂的感光层的湿式显影用电子照相感光体以及使用它的湿式图像形成装置中,使电子输送剂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.60或0.60以上的值,并且粘结树脂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.37或0.37以上的值;或者使电子输送剂的分子量为600或600以上的值,并且粘结树脂的无机性值/有机性值(I/O值)为0.37或0.37以上的值。
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公开(公告)号:CN106556978A
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201610127376.8
申请日:2016-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/14704 , G03G5/0436 , G03G5/0507 , G03G5/0542 , G03G5/0614 , G03G5/0696 , G03G21/18
Abstract: 本发明公开了一种电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置,该电子照相感光元件包括导电基底;有机感光层,其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层,所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量%以上的二氧化硅颗粒;以及无机保护层,其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。
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