公开(公告)号：CN107203101A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201610815920.8

申请日：2016-09-09

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 目罗史明 ,  鸟越诚之 ,  平方昌记 ,  胜原秀弥 ,  木越阳一 ,  柏木里美 ,  岩馆侑子 ,  梶原贤志 ,  佐野龙辉 ,  今井孝史 ,  岩永刚

IPC: G03G5/147

CPC classification number: G03G5/14704 ,  G03G5/0436 ,  G03G5/0507 ,  G03G5/087 ,  G03G15/75 ,  G03G21/18

Abstract: 本发明提供了一种电子照相感光体，包括：导电性基体、在所述导电性基体上的有机感光层和在所述有机感光层上的无机保护层，其中形成所述有机感光层的表面的层包含电荷传输材料、粘结剂树脂和二氧化硅颗粒；所述无机保护层包含第13族元素、氧原子和氢原子；所述第13族元素、所述氧原子和所述氢原子相对于构成所述无机保护层的所有元素的元素构成比率之和等于或大于90原子％；以及所述氧原子和所述第13族元素的元素组成比(氧原子/第13族元素)在1.0以上且小于1.5。所述电子照相感光体抑制了图像缺陷的发生以及图像模糊的发生。

公开(公告)号：CN105988314B

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201510097043.0

申请日：2015-03-04

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 额田克己 ,  广濑英一 ,  佐佐木知也 ,  岩馆侑子 ,  梶原贤志 ,  佐野龙辉

IPC: G03G15/00 ,  G03G9/08 ,  G03G21/18

Abstract: 本发明提供一种成像方法，其中当将脂肪酸金属盐颗粒相对于调色剂总重量的含量设定为Rmf，将静电感光体的平均磨耗率设定为Wh，将静电感光体的最大磨耗率设定为Whmax和将静电感光体的最小磨耗率设定为Whmin时，并且将所述的静电感光体的平均磨耗率设定为Wl，将所述的静电感光体的最大磨耗率设定为Wlmax和所述的静电感光体的最小磨耗率设定为Wlmin时，满足以下表达式：·表达式(A1)：0.01

公开(公告)号：CN105988314A

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201510097043.0

申请日：2015-03-04

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 额田克己 ,  广濑英一 ,  佐佐木知也 ,  岩馆侑子 ,  梶原贤志 ,  佐野龙辉

IPC: G03G15/00 ,  G03G9/08 ,  G03G21/18

CPC classification number: G03G5/02 ,  G03G5/0592 ,  G03G9/09708 ,  G03G9/09791 ,  G03G21/0011 ,  G03G21/0094

Abstract: 本发明提供一种成像方法，其中当将脂肪酸金属盐颗粒相对于调色剂总重量的含量设定为Rmf，将静电感光体的平均磨耗率设定为Wh，将静电感光体的最大磨耗率设定为Whmax和将静电感光体的最小磨耗率设定为Whmin时，并且将所述的静电感光体的平均磨耗率设定为Wl，将所述的静电感光体的最大磨耗率设定为Wlmax和所述的静电感光体的最小磨耗率设定为Wlmin时，满足以下表达式：·表达式(A1)：0.01

公开(公告)号：CN104945609A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201510104786.6

申请日：2015-03-10

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 三枝浩 ,  佐野龙辉 ,  宫原知子 ,  鸟越薰

IPC: C08G65/00 ,  C07C69/653 ,  C07C67/08 ,  C09D171/00 ,  C09D4/02

CPC classification number: C08F222/20 ,  C07C69/653 ,  C07C69/734 ,  C09D135/02

Abstract: 本发明提供由下面通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物：其中R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子，n1表示从1至5的整数，n2表示从0至2的整数，n1和n2的总和小于或等于5，m表示大于或等于1的整数，A1和A2各自独立地表示二价基团，B1和B2各自独立地表示单键或二价基团，以及X1和X2各自独立地表示具有至少一种反应性交联基团的一价基团。

公开(公告)号：CN106556978B

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201610127376.8

申请日：2016-03-07

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 平方昌记 ,  胜原秀弥 ,  木越阳一 ,  岩永刚 ,  鸟越诚之 ,  今井孝史 ,  佐野龙辉

IPC: G03G5/147

Abstract: 本发明公开了一种电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置，该电子照相感光元件包括导电基底；有机感光层，其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层，所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒；以及无机保护层，其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。

公开(公告)号：CN106556978A

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201610127376.8

申请日：2016-03-07

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 平方昌记 ,  胜原秀弥 ,  木越阳一 ,  岩永刚 ,  鸟越诚之 ,  今井孝史 ,  佐野龙辉

IPC: G03G5/147

CPC classification number: G03G5/14704 ,  G03G5/0436 ,  G03G5/0507 ,  G03G5/0542 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/0696 ,  G03G21/18

Abstract: 本发明公开了一种电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置，该电子照相感光元件包括导电基底；有机感光层，其设置在所述导电基底上并且包括一构成表面的层，所述层含有电荷输送材料、粘合剂树脂以及含有量为40重量％以上的二氧化硅颗粒；以及无机保护层，其设置在所述有机感光层上并且具有5nm以下的表面粗糙度Ra。

公开(公告)号：CN106033173A

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：CN201510104942.9

申请日：2015-03-10

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 梶原贤志 ,  额田克己 ,  广濑英一 ,  佐佐木知也 ,  岩馆侑子 ,  佐野龙辉

IPC: G03G5/05 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

CPC classification number: G03G5/0648 ,  G03G5/0507 ,  G03G5/0589 ,  G03G5/0592 ,  G03G5/0618 ,  G03G5/062

Abstract: 本发明涉及一种电子照相感光体、包括该电子照相感光体的处理盒和成像装置。本发明的电子照相感光体包括导电基体和设于所述导电基体上的感光层，其中所述电子照相感光体的最外表面层是一种组合物的固化膜，所述组合物含有反应性电荷传输材料和具有疏水处理表面的二氧化硅粒子，使得本发明的电子照相感光体的最外表面层具有优异的电特性稳定性和抗擦伤性。