用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器

    公开(公告)号:CN103456383A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310213657.1

    申请日:2013-05-31

    申请人: 西门子公司

    IPC分类号: G21K3/00

    摘要: 本发明涉及一种用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器。该自适应X射线滤波器(1)包括吸收X射线辐射(2)的第一液体(15)(例如Galinstan合金),和可电致变形的调节元件(17),该调节元件(17)通过至少部分地挤压第一液体(15)而在各调节元件(17)的位置处改变第一液体(15)的层厚度。本发明所提供的优点是通过自适应X射线滤波器(1)可简单、精确且快速地调制X射线辐射(2)的辐射场。

    用于促进孔保护的基于纳米结构的光学限制器

    公开(公告)号:CN109557664A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201810991660.9

    申请日:2018-08-29

    申请人: 波音公司

    发明人: M·H·塔尼连

    IPC分类号: G02B27/00 G02B5/02 G02B5/24

    摘要: 各种技术提供了用于促进孔保护的基于纳米结构的光学限制器。在一个示例中,一种方法包括经由第一窗口在溶液上接收入射光,其中该溶液包括液体介质、溶解在液体介质中的气体,以及与液体介质接触的纳米结构。该方法进一步包括基于响应于入射光的多个纳米结构的子集的振荡,在液体介质中产生热量。该方法进一步包括响应于产生的热量,将至少一部分气体作为气泡从溶液中释放。该方法进一步包括通过释放的气泡散射入射光,以防止入射光到达第二窗口。还提供了相关的系统和产品。