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公开(公告)号：CN107123504A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201710535226.5
申请日：2017-07-03
Applicant: 上海联影医疗科技有限公司
Inventor： 刘建锋
IPC: H01F13/00 , H01F6/00 , G01R33/381
CPC classification number: G01R33/3815 , C08G63/79 , G01R33/3804 , H01F6/006 , H01F6/008 , H01F13/006 , G01R33/381 , H01F6/00
Abstract: 本发明涉及一种磁共振系统，包括磁共振磁体及收容所述磁共振磁体的存储容器，所述存储容器能够收容吸热液体，磁共振系统还包括第一降场装置，所述第一降场装置通过在外部消耗所述磁共振磁体内的电能对所述磁共振磁体降场。本发明的磁共振磁体降场系统，通过第一降场装置在外部消耗磁共振磁体内的电能，虽然降场时间略长，但是降场成本远远低于利用液氦降场，在使用第一降场装置降场时，无需磁共振系统的维护工程师到医院现场进行磁体降场，该操作可由医院技师完成。本发明还涉及一种磁共振磁体降场系统的降场方法。
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公开(公告)号：CN1150595A
公开(公告)日：1997-05-28
申请号：CN96112350.8
申请日：1996-09-20
Applicant: 通用电气公司
IPC: C08G77/448
CPC classification number: C08G63/79 , C08G64/186 , C08G64/24 , C08G77/448
Abstract: 在相转移催化剂存在下，通过界面聚合的方法制备聚碳酸酯—聚硅氧烷嵌段共聚物。
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公开(公告)号：CN102466994B
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201110369209.1
申请日：2011-11-18
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G9/0806 , C08G63/79 , C08G63/81 , C08G63/823 , G03G9/0808 , G03G9/0812 , G03G9/0815 , G03G9/08795
Abstract: 本发明涉及调色剂，该调色剂通过包括以下的方法制备：在压缩性流体中，在表面活性剂和着色剂的存在下，用催化剂使开环聚合性单体聚合的同时造粒。
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公开(公告)号：CN1225371A
公开(公告)日：1999-08-11
申请号：CN98126015.2
申请日：1998-12-22
Applicant: 通用电气公司
IPC: C08G63/672 , C08G63/79
Abstract: 在两步法中,以界面聚合方式由至少一种二羟基芳族化合物和至少一种二羧酸制备共聚酯碳酸酯,降低了共聚酯碳酸酯中酐键含量。第一步骤是在pH值为约4.5—9.5的范围内进行的,使用相转移催化剂如卤化四烷基铵,和叔胺,如三乙基胺的混合物。相转移催化剂的比例在约3—12摩尔百分数的范围(以所用的二羟基芳族化合物和二羧酸的总量为基础计);在第二步光气化步骤中,pH值升高到至少为约10,并导入超过化学计量至少5wt%的光气。
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公开(公告)号：CN1112942A
公开(公告)日：1995-12-06
申请号：CN95105722.7
申请日：1995-05-10
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: C08G77/448 , C08G63/79 , C08G64/186 , C08G64/24
Abstract: 本发明提供了一种使用有效量的二元催化剂体系制备聚碳酸酯的组合物和方法，包括用相转移催化剂和有机叔胺作为双酚如双酚A的界面光气化作用过程中的缩合催化剂。由此改善了光气的利用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107123504B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201710535226.5
申请日：2017-07-03
Applicant: 上海联影医疗科技有限公司
Inventor： 刘建锋
IPC: H01F13/00 , H01F6/00 , G01R33/381
CPC classification number: G01R33/3815 , C08G63/79 , G01R33/3804 , H01F6/006 , H01F6/008
Abstract: 本发明涉及一种磁共振系统，包括磁共振磁体及收容所述磁共振磁体的存储容器，所述存储容器能够收容吸热液体，磁共振系统还包括第一降场装置，所述第一降场装置通过在外部消耗所述磁共振磁体内的电能对所述磁共振磁体降场。本发明的磁共振磁体降场系统，通过第一降场装置在外部消耗磁共振磁体内的电能，虽然降场时间略长，但是降场成本远远低于利用液氦降场，在使用第一降场装置降场时，无需磁共振系统的维护工程师到医院现场进行磁体降场，该操作可由医院技师完成。本发明还涉及一种磁共振磁体降场系统的降场方法。
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公开(公告)号：CN106589335A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611214034.6
申请日：2016-12-23
Applicant: 宁波慧谷特种纤维科技有限公司
Inventor： 不公告发明人
IPC: C08G63/547 , C08G63/676 , C08G63/79 , C09D167/06 , C09D5/08 , C09D7/00
CPC classification number: C08G63/547 , C08G63/676 , C08G63/79 , C09D5/08 , C09D7/20 , C09D167/06
Abstract: 本发明公开了一种聚芳酯光敏涂料组合物，其主要包括60‑90重量份的聚芳酯低聚物、0.2‑5重量份的多元硫醇和0.05～5重量份的光引发剂，所述聚芳酯低聚物是由芳族二甲酰氯单体和含有不饱和双键烷基侧链的芳族二酚单体聚合得到，所述聚芳酯低聚物的比浓对数粘度为1.5～2.0dL/g，数均分子量为1000～8000g/mol，并在卤代烃中具有良好的溶解性能。本发明还公开了由上述聚芳酯光敏涂料组合物制得的聚芳酯防护涂层，该聚芳酯防护涂层是由上述聚芳酯光敏涂料组合物制得的交联聚芳酯，因而具有十分优异的耐高温、耐化学腐蚀性和耐候性。
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公开(公告)号：CN105418906A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510961217.3
申请日：2015-12-18
Applicant: 佛山市南海高拓包装材料有限公司
IPC: C08G63/698 , C08G63/79
CPC classification number: C08G63/6986 , C08G63/79
Abstract: 本发明公开一种室温合成碳硼烷聚芳酯的方法和碳硼烷聚芳酯，该方法是在惰性气体保护下，无水无氧环境中，以低分子卤代烃溶解二酰氯作为有机相，去离子水溶解碳硼烷二酚作为无机相；以苄基三乙基氯化铵和强碱作为催化剂，将有机相缓慢滴加至无机相中，完全滴加后快速搅拌，得到高分子量的碳硼烷聚芳酯。在室温下进行，无需像传统含碳硼烷聚合物那样在高温下进行，安全可靠，分子量高，产率在75％以上。
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公开(公告)号：CN104968704A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480005463.5
申请日：2014-01-22
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G63/79
CPC classification number: C08G63/79 , C08G63/785
Abstract: 根据本发明的优选方式，能够提供一种利用二元酚成分和芳香族二羧酸成分形成的聚芳酯的制造方法，该制造方法的特征在于：在界面聚合反应工序中，在下述式(1)所示的聚合催化剂的存在下，使用往复旋转式搅拌机进行界面聚合反应。(式中的n表示2、3、4中的任一个，Y表示乙基、丙基、丁基或苄基，X表示Cl、Br、OH或HSO4。)
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