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公开(公告)号：CN1241191C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN02147209.2
申请日：2002-08-08
Applicant: TDK股份有限公司
IPC: G11B7/26
Abstract: 本发明的目的是提供一种防止用于操作盖罩的支杆的污染的光盘制造方法。本发明具有：对具有一个面是凸面的圆形伞部(41)、和从伞部(41)的凸面中心突出设置的操作用突起(43)的盖罩(40)的操作用突起(43)进行操作，将盖罩(40)载置在成膜基片(10′)中心部的载置工序；在盖罩(40)的伞部(41)的凸面滴下液状物质的滴下工序；一体地旋转成膜基片(10′)和盖罩(40)使液状物质涂敷在成膜基片(10′)表面的旋转涂敷工序。这样，应涂敷的液状物质就不会附着在用于操作盖罩(40)的支杆上。
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公开(公告)号：CN1618098A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN03802380.6
申请日：2003-01-17
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B23/0035 , G11B7/00 , G11B7/26 , Y10T428/21
Abstract: 一种盘状光学记录介质，通过在盘状基板材料上进行一薄膜成形过程，并通过在最后一步形成一中心孔来完成，使得当记录介质被装载到驱动器时，不出现偏心。在光盘制造过程的最后一步，即在其一侧成形有至少一树脂层的盘状基板材料(12)的中心部分(26)上开孔时，该中心部分26被以如下的方式去除，即夹持中心孔(28)在盘状基板材料(12)侧的直径大于在盘状光学记录介质(30)的光透射树脂层(22)侧的直径，由此制造该盘状光学记录介质(30)。
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公开(公告)号：CN102682805A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210032933.X
申请日：2012-02-09
Applicant: TDK股份有限公司
IPC: G11B7/242
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432 , G11B2007/25706 , G11B2007/25715
Abstract: 本发明的多层光记录介质能够使多层光记录介质的设计简单且增加叠层数量。在隔着中间层层叠有至少4层以上的能够通过照射光来再现信息的记录再现层的多层光记录介质(10)中，具有至少1个记录再现层组，该记录再现层组由沿着层叠顺序连续的多层记录再现层构成，并且从接近光入射面的外侧朝向里侧，该记录再现层组的叠层状态的反射率减小，使最外侧的记录再现层的单层反射率为0.2％以上且小于2.0％，对光入射面实施提高光透过率加工。
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公开(公告)号：CN102456367A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110328451.4
申请日：2011-10-21
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
Abstract: 本发明提供一种多层光记录介质，能够抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。一种多层光记录介质(10)，隔着中间层层积至少3层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，中间层的膜厚具有两种以下，除了距光入射面最远的记录再现层之外的剩余的所有的记再现层的光学常数彼此实质上相同。
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公开(公告)号：CN102456369A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110328418.1
申请日：2011-10-21
Applicant: TDK股份有限公司
IPC: G11B7/242
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
Abstract: 本发明提供一种多层光记录介质，抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，还实现记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。在层积8层以上的记录再现层的多层光记录介质中，具有至少2组以上的记录再现层组(13A、13B)。各记录再现层组(13A、13B)由以层积顺序连续的多个记录再现层构成，层积状态的反射率从接近光入射面的外侧向远离该光入射面的里侧减少。另外，在相邻的记录再现层组(13A、13B)中，与在光入射面侧的记录再现层组(13B)中位于最里侧的记录再现层(14E)的层积状态的反射率相比较，在里侧的记录再现层组(13A)中位于最外侧的记录再现层(14D)的层积状态的反射率高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102708898A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210065799.3
申请日：2012-03-09
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B7/14 , G11B7/24038 , G11B7/2405 , G11B2007/0009 , G11B2007/0013
Abstract: 提供光记录再现装置及光记录再现方法，即使在光记录介质中采用多层记录再现层，也能够抑制进行记录再现时的信号品质恶化。进而能够提高传送率。光记录再现装置(90)具有第一光学系统和第二光学系统，在通过照射光来对具有多个记录再现层(14)的光记录介质(10)进行信息记录再现时，第一光学系统通过对成为第一对象的记录再现层(14A～14E)照射第一光束(770A)来进行信息记录再现，第二光学系统通过对成为第二对象的所述记录再现层(14F～14J)照射第二光束(770B)来进行信息的记录再现，并且，所述记录再现层(14)是预先层叠形成或事后形成的。
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公开(公告)号：CN102629476A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210028208.5
申请日：2012-02-03
Applicant: TDK股份有限公司
IPC: G11B7/0045 , G11B7/005 , G11B7/007 , G11B7/095 , G11B7/24
CPC classification number: G11B7/0903 , G11B7/09 , G11B7/1267 , G11B7/14 , G11B7/24018 , G11B7/2403 , G11B7/24038 , G11B7/2405 , G11B7/24079
Abstract: 提供光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法。光记录介质包括：预先层叠而成或事后形成且不具有循轨控制用凹凸的记录再现层、形成有循轨控制用凹凸或沟槽的伺服层，而且一边利用该伺服层来进行循轨，一边对记录再现层进行信息记录。
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公开(公告)号：CN102456366A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110328437.4
申请日：2011-10-21
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B7/2578 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
Abstract: 本发明提供一种多层光记录介质，抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，也实现记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。在层积4层以上的记录再现层的多层光记录介质中，具有至少两组以上由以层积顺序连续的多个记录再现层构成的记录再现层组。在各记录再现层组内，特定的记录再现层的层积状态的反射率比与该记录再现层在光入射面侧连续的两个记录再现层的层积状态的反射率中的最大值更小。另外，在隔着中间层而相邻的记录再现层组中，与在外侧的记录再现层组中排列在最里侧的两个记录再现层的层积状态的反射率中的最大值相比较，在里侧的记录再现层组中位于最外侧的记录再现层的层积状态的反射率更高。
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公开(公告)号：CN1308945C
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN03802380.6
申请日：2003-01-17
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B23/0035 , G11B7/00 , G11B7/26 , Y10T428/21
Abstract: 一种盘状光学记录介质，通过在盘状基板材料上进行一薄膜成形过程，并通过在最后一步形成一中心孔来完成，使得当记录介质被装载到驱动器时，不出现偏心。在光盘制造过程的最后一步，即在其一侧成形有至少一树脂层的盘状基板材料(12)的中心部分(26)上开孔时，该中心部分26被以如下的方式去除，即夹持中心孔(28)在盘状基板材料(12)侧的直径大于在盘状光学记录介质(30)的光透射树脂层(22)侧的直径，由此制造该盘状光学记录介质(30)。
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公开(公告)号：CN1402234A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02147209.2
申请日：2002-08-08
Applicant: TDK股份有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供一种防止用于操作盖罩的支杆的污染的光盘制造方法。本发明具有：对具有一个面是凸面的圆形伞部(41)、和从伞部(41)的凸面中心突出设置的操作用突起(43)的盖罩(40)的操作用突起(43)进行操作，将盖罩(40)载置在成膜基片(10’)中心部的载置工序；在盖罩(40)的伞部(41)的凸面滴下液状物质的滴下工序；一体地旋转成膜基片(10’)和盖罩(40)使液状物质涂敷在成膜基片(10’)表面的旋转涂敷工序。这样，应涂敷的液状物质就不会附着在用于操作盖罩(40)的支杆上。
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